カーボン保護膜及びその形成方法、並びにそのカーボン保護膜を備えた磁気記録媒体、磁気ヘッド、及び磁気記憶装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：伊東忠彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003092869
Publication number (International publication number)：2004300486
Application date： Mar. 28, 2003
Publication date： Oct. 28, 2004
Summary：

【課題】平滑性及び膜質が良好で高硬度であり薄膜化が可能なカーボン保護膜及びその形成方法を提供する。【解決手段】プラズマトーチ11と、真空チャンバ12と、真空チャンバ12内にプラズマトーチ11と対向して設けられた基板13を保持する基板保持台14と、プラズマトーチ11にカーボン保護膜の原料となるカーボン粒子を供給する粉体供給器15などから構成されたアーク放電プラズマジェット成膜装置10において、プラズマトーチ11にアーク放電を生じさせ、形成されたプラズマ中にキャリアガスと共にカーボン粒子を供給する。カーボン粒子をカーボンイオンに変換してプラズマジェットとして基板13に放射し、カーボン保護膜を堆積させる。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

カーボンイオンを含むプラズマを放射してカーボン保護膜を基体上に堆積させるカーボン保護膜の形成方法であって、プラズマを形成し、該プラズマ中にカーボン粒子を供給してカーボンイオンに変換し、該カーボンイオンを含むプラズマを前記基体に放射することを特徴とするカーボン保護膜の形成方法。

IPC (9)：

C23C14/32 , C23C14/06 , C23C16/27 , C23C16/453 , C23C16/503 , G11B5/187 , G11B5/60 , G11B5/72 , G11B5/84

FI (9)：

C23C14/32 B , C23C14/06 F , C23C16/27 , C23C16/453 , C23C16/503 , G11B5/187 K , G11B5/60 C , G11B5/72 , G11B5/84 B

F-Term (25)：

4K029BA34 , 4K029CA03 , 4K029DD06 , 4K030AA09 , 4K030AA10 , 4K030BA28 , 4K030FA01 , 4K030FA04 , 4K030JA14 , 4K030JA15 , 4K030KA32 , 5D006AA02 , 5D042AA07 , 5D042NA02 , 5D042SA03 , 5D111AA24 , 5D111DD00 , 5D111FF23 , 5D111JJ03 , 5D111KK07 , 5D111KK08 , 5D112AA07 , 5D112BC05 , 5D112FB10 , 5D112FB11

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

炭素膜および炭素膜製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-148977 Applicant：電気化学工業株式会社
磁気ディスク媒体保護膜の成膜方法および装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-017186 Applicant：富士通株式会社
記録装置の製造方法及び製造装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-139144 Applicant：富士通株式会社

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Article cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

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