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J-GLOBAL ID:200903040365365145

走査型プローブ顕微鏡の標準サンプルおよびその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 林 敬之助
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998113805
Publication number (International publication number):1999304822
Application date: Apr. 23, 1998
Publication date: Nov. 05, 1999
Summary:
【要約】【課題】 表面の凹凸情報に影響されることなく基準となる各力を正確に検出することができる走査型プローブ顕微鏡の標準サンプルを提供すること。【解決手段】 図1(a)のシリコン基板10の表面に、(b)のようにフォトレジスト膜12を塗布し、フォトリソグラフィ工程によりレジストマスク12をパターニングする(c)。レジストマスク12をエッチングマスクとして、異方性エッチングを行い、シリコン基板10に壁面が垂直な窪み部を形成する(d)。図示を省略するが、その後、レジストマスク12の上から蒸着法によりメタルをデポジションし、リフトオフプロセスにより、レジストマスク12より上のメタルを除去し、シリコン基板10の窪み部にメタルが埋め込んだ標準サンプルを形成する。また、標準サンプル表面にDLC膜をコートし、サンプル表面を平滑にすることもできる。
Claim (excerpt):
試料面の状態を測定する走査型プローブ顕微鏡の標準サンプルであって、サンプルとなる基板の面内方向に基板材料と異なる物性値を有する材料が一定の厚さで埋め込まれた異物性領域が設けられ、前記基板の表面が平坦性を有していることを特徴とする走査型プローブ顕微鏡の標準サンプル。
IPC (5):
G01N 37/00 ,  G01B 21/30 ,  G01N 1/00 102 ,  G01N 1/28 ,  G01N 1/32
FI (7):
G01N 37/00 A ,  G01B 21/30 Z ,  G01N 1/00 102 B ,  G01N 1/32 B ,  G01N 1/28 N ,  G01N 1/28 F ,  G01N 1/28 G
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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