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J-GLOBAL ID：200903040469896320

無機被膜形成用組成物および無機被膜形成方法

Inventor：
高梨 博

About 高梨 博

, 
佐藤 善美

About 佐藤 善美

, 
小畑 健和

About 小畑 健和


Applicant, Patent owner：
東京応化工業株式会社

About 東京応化工業株式会社


Agent (1)： 曾我 道照 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999194111
Publication number (International publication number)：2001019873
Application date： Jul. 08, 1999
Publication date： Jan. 23, 2001
Summary：
【要約】【課題】 導電性被膜、絶縁性被膜、光吸収性被膜、または蛍光体被膜などの各種無機被膜を低温焼成プロセスで形成することが可能な無機被膜形成用組成物および無機被膜形成方法を提供すること。【解決手段】 (A)感光剤、(B)粉末、および(C)硝酸塩を含んでなる無機被膜形成用組成物。
Claim (excerpt)：
(A)感光剤、(B)粉末、および(C)硝酸塩を含んでなることを特徴とする無機被膜形成用組成物。
IPC (6)：
C09D 1/00 ,  C09D 5/00 ,  G03F 7/40 501 ,  G03F 7/40 521 ,  H01J 9/227 ,  H01L 21/027
FI (7)：
C09D 1/00 ,  C09D 5/00 C ,  G03F 7/40 501 ,  G03F 7/40 521 ,  H01J 9/227 C ,  H01J 9/227 D ,  H01L 21/30 571
F-Term (52)：
2H096AA00 ,  2H096AA27 ,  2H096BA02 ,  2H096BA03 ,  2H096BA05 ,  2H096BA20 ,  2H096EA02 ,  2H096GA08 ,  2H096HA01 ,  2H096JA04 ,  4J038AA011 ,  4J038BA041 ,  4J038CE021 ,  4J038CG031 ,  4J038CK031 ,  4J038CP031 ,  4J038DH001 ,  4J038GA08 ,  4J038HA021 ,  4J038HA026 ,  4J038HA061 ,  4J038HA066 ,  4J038HA211 ,  4J038HA216 ,  4J038HA311 ,  4J038HA316 ,  4J038HA331 ,  4J038HA336 ,  4J038HA351 ,  4J038HA356 ,  4J038HA471 ,  4J038HA476 ,  4J038HA561 ,  4J038HA566 ,  4J038JA34 ,  4J038JA43 ,  4J038JB16 ,  4J038JB18 ,  4J038JB29 ,  4J038KA08 ,  4J038KA20 ,  4J038NA18 ,  4J038NA19 ,  4J038NA20 ,  4J038NA21 ,  4J038PA19 ,  4J038PB09 ,  4J038PC01 ,  4J038PC03 ,  5C028HH14 ,  5C028JJ09 ,  5F046LA18
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (9)
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