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J-GLOBAL ID：200903051480317113

パターニング可能な無機酸化物被膜形成用コーティング剤及びパターン形成方法

Inventor：
野上 達哉

About 野上 達哉

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酒井 里枝

About 酒井 里枝

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細谷 猛

About 細谷 猛

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中田 孝和

About 中田 孝和


Applicant, Patent owner：
日産化学工業株式会社

About 日産化学工業株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994295176
Publication number (International publication number)：1995304998
Application date： Nov. 29, 1994
Publication date： Nov. 21, 1995
Summary：
【要約】【構成】 (A)成分として金属硝酸塩と、(B)成分として多価アルコール(エチレングリコール等)、多価アルコールの縮合物(ジエチレングリコール等)及びそれらの誘導体並びにN-メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキサイド、ジメチルアセトアミド及びそれらの誘導体の中から選ばれた少なくとも1種の化合物が、有機溶媒または/及び水に溶解してなることを特徴とする光(紫外線等)によりパターニング可能な無機酸化物被膜形成用コーティング剤に関し、又、前記コーティング剤を基材に塗布、乾燥した後、光を照射し、光未照射部分を水により溶解除去する事を特徴とする無機酸化物被膜のパターン形成方法に関する。【効果】 本発明のコーティング剤は、紫外線等の光により、容易に所望部分にのみ、無機被膜を形成しうる。又、光未照射部の溶解除去が、水で行える為、耐薬品性の無い基材にも適用でき、且つ廃液、環境汚染等の問題が無い。
Claim (excerpt)：
(A)成分として金属硝酸塩と、(B)成分として多価アルコール、多価アルコールの縮合物、多価アルコールのエーテルまたはエステル誘導体、多価アルコールの縮合物のエーテルまたはエステル誘導体及びそれらの誘導体並びにN-メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキサイド、ジメチルアセトアミド及びそれらの誘導体の中から選ばれた少なくとも1種の化合物が、有機溶媒又は/及び水に溶解してなることを特徴とする光によりパターニング可能な無機酸化物被膜形成用コーティング剤。
IPC (3)：
C09D 1/00 PCJ ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/038
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (12)
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Cited by examiner (12)
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