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J-GLOBAL ID：200903040966624725

全反射蛍光X線分析装置

Inventor：
寺田 慎一

About 寺田 慎一


Applicant, Patent owner：
株式会社テクノス研究所

About 株式会社テクノス研究所


Agent (1)： 西教 圭一郎 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000043275
Publication number (International publication number)：2001235437
Application date： Feb. 21, 2000
Publication date： Aug. 31, 2001
Summary：
【要約】【課題】 軽元素分析に好適な2次ターゲット法を用いて、X線の利用効率および測定限界を大幅に向上できる全反射蛍光X線分析装置を提供する。【解決手段】 全反射蛍光X線分析装置は、第1励起X線XAを発生するエンドウインドウ型のX線管1と、第1励起X線XAによって励起されて第2励起X線XBを発生し第2励起X線XBを全反射入射角度で試料SPに照射するための断面三角形状の2次ターゲット2と、第2励起X線XBの照射範囲を規定するの絞り3と、試料SPから発生する蛍光X線XCを検出するX線検出器4と、X線検出器4からの検出信号をエネルギー分散方式等によって解析するデータ解析部5と、解析結果を表示するディスプレイ部6などで構成される。
Claim (excerpt)：
X線出射方向が試料測定面の法線方向に略平行となるように設けられ、第1励起X線を発生するためのX線管と、X線管のX線出射面と試料測定面との間に設けられ、第1励起X線によって励起されて第2励起X線を発生し、第2励起X線を全反射入射角度で試料に照射するための2次ターゲットと、第2励起X線によって励起された試料領域から発生する蛍光X線を検出するためのX線検出器とを備えることを特徴とする全反射蛍光X線分析装置。
F-Term (20)：
2G001AA01 ,  2G001AA09 ,  2G001AA20 ,  2G001BA04 ,  2G001CA01 ,  2G001DA01 ,  2G001DA02 ,  2G001EA03 ,  2G001GA01 ,  2G001GA13 ,  2G001KA01 ,  2G001LA11 ,  2G001MA05 ,  2G001NA06 ,  2G001NA16 ,  2G001NA17 ,  2G001PA11 ,  2G001PA14 ,  2G001SA10 ,  2G001SA30
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (8)
  • インライン蛍光X線膜厚モニタ
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-022250   Applicant：セイコーインスツルメンツ株式会社
  • 蛍光X線分析装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-144054   Applicant：理学電機工業株式会社, 株式会社東芝
  • 特開平4-034349
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