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J-GLOBAL ID：200903038786093050

基板収納カセット、インターフェイス機構および基板処理装置

Inventor：
大谷 正美

About 大谷 正美


Applicant, Patent owner：
大日本スクリーン製造株式会社

About 大日本スクリーン製造株式会社


Agent (1)： 吉田 茂明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995249748
Publication number (International publication number)：1997092702
Application date： Sep. 27, 1995
Publication date： Apr. 04, 1997
Summary：
【要約】【課題】 基板処理装置における清浄性を確保するとともに処理効率を高める。【解決手段】 現像処理ユニット160と露光処理ユニット170とが、それぞれの操作部を直線的に整列して配列されている。処理ユニット160,170の間にはインターフェイス機構IFDが設けられる。インターフェイス機構IFDは、基板の周縁部を支持して搬送する基板搬送装置TR2と、3本のピンで基板の裏面を支持し、基板バッファとして使用される基板収納カセット120とを有する。インデクサIDAからの基板の払い出しに際しては、処理ユニット160,170との間の基板の往復経路における基板存在枚数が考慮された制御がなされる。
Claim (excerpt)：
基板を複数枚収納する基板収納カセットにおいて、それぞれが1枚の基板を収容可能な複数の基板収納部が積層され、前記基板収納部のそれぞれは複数の支持部材を有しており、前記基板収納部のそれぞれにおいて、前記複数の支持部材の先端が前記基板の平面サイズより小さい略水平の範囲内において非直線状に配列されて前記基板の裏面を支持可能とされていることを特徴とする基板収納カセット。
IPC (5)：
H01L 21/68 ,  B65G 49/07 ,  G02F 1/13 101 ,  H01L 21/027 ,  B65D 85/86
FI (8)：
H01L 21/68 A ,  H01L 21/68 V ,  B65G 49/07 C ,  G02F 1/13 101 ,  H01L 21/30 502 J ,  H01L 21/30 503 E ,  H01L 21/30 569 D ,  B65D 85/38 R
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (11)
  • ウェハー貯蔵及び運搬用のコンテナ
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-356749   Applicant：フルオロウェア・インコーポレーテッド
  • 特開平2-096399
  • 搬送装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-282113   Applicant：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
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Cited by examiner (7)
  • ウェハー貯蔵及び運搬用のコンテナ
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-356749   Applicant：フルオロウェア・インコーポレーテッド
  • 管制情報システム及び高度監視方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-241827   Applicant：三菱電機株式会社
  • 搬送装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-282113   Applicant：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
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