エレクトレットコンデンサー及びその製造方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：岩橋文雄 , 坂口智康 , 内藤浩樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003417796
Publication number (International publication number)：2005183437
Application date： Dec. 16, 2003
Publication date： Jul. 07, 2005
Summary：

【課題】耐湿性に優れるエレクトレットコンデンサーを提供する。【解決手段】シリコン基板6上に形成したエレクトレットシリコン酸化膜7を、絶縁膜9と金属膜8にて挟み込み、シリコン酸化膜7を露出させない構造とする。このとき、金属膜8をスパッタで形成する直前に、スパッタ装置の真空チャンバー内でシリコン酸化膜をプラズマを用いてエレクトレット化を行う。これにより、エレクトレットの吸湿を抑制し、信頼性の高いエレクトレットコンデンサーを提供することができる。【選択図】図5

Claim (excerpt)：

エレクトレット化された領域を有するシリコン酸化膜を備え、少なくとも前記シリコン酸化膜のエレクトレット化された前記領域は絶縁膜もしくは電極膜及び絶縁膜により覆われていることを特徴とするエレクトレット。

IPC (3)：

H01G7/02 , H04R19/01 , H04R19/04

FI (4)：

H01G7/02 C , H01G7/02 E , H04R19/01 , H04R19/04

F-Term (4)：

5D021CC08 , 5D021CC12 , 5D021CC19 , 5D021CC20

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

シリコン酸化膜エレクトレット及びエレクトレットコンデンサマイクロホン
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-138536 Applicant：南内嗣, ホシデン株式会社

Cited by examiner (5)

エレクトレット
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-092817 Applicant：松下電工株式会社
シリコン酸化膜エレクトレット及びエレクトレットコンデンサマイクロホン
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-138536 Applicant：南内嗣, ホシデン株式会社
特公昭60-046600

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