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J-GLOBAL ID：200903042191461568

光記録保護膜形成用スパッタリングターゲット及びその製造方法

Inventor： 高井 恵一 ,  瀬戸 康博 ,  渡辺 弘
Applicant, Patent owner： 三井金属鉱業株式会社
Agent (1)： 羽鳥 修
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999105851
Publication number (International publication number)：2000297363
Application date： Apr. 13, 1999
Publication date： Oct. 24, 2000
Summary：

【要約】【課題】 強度に優れ、しかもスパツタリングにおいて、ダスト又はパーティクルの発生が少なく、その結果として長期使用に耐えることが可能な光記録保護膜形成用スパッタリングターゲット及びその製造方法を提供する。【解決手段】 ZnSとSiO2 からなる光記録保護膜形成用スパッタリングターゲットであって、スパッタリングした後の表面粗さ(Ra)が2.4未満であることを特徴とする光記録保護膜形成用スパッタリングターゲット。

Claim (excerpt)：

ZnSとSiO2 からなる光記録保護膜形成用スパッタリングターゲットであって、スパッタリングした後の表面粗さ(Ra)が2.4未満であることを特徴とする光記録保護膜形成用スパッタリングターゲット。

IPC (2)：

C23C 14/34 ,  G11B 7/26 531

FI (2)：

C23C 14/34 A ,  G11B 7/26 531

F-Term (10)：

4K029BA46 ,  4K029BA51 ,  4K029BD12 ,  4K029CA05 ,  4K029DC05 ,  4K029DC09 ,  5D121AA04 ,  5D121EE03 ,  5D121EE11 ,  5D121EE14

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 相変化型光記録媒体の保護膜形成用スパッタリングターゲット材料およびその製造法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-187266   Applicant：同和鉱業株式会社
• 光記録膜用保護膜のための焼結体の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-083794   Applicant：住友金属鉱山株式会社
• 酸化インジウム・酸化錫焼結体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-304493   Applicant：住友金属鉱山株式会社