パターン形成体の製造方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：山下昭彦 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002336575
Publication number (International publication number)：2003222626
Application date： Nov. 20, 2002
Publication date： Aug. 08, 2003
Summary：

【要約】【課題】本発明は、パターン形成体の表面に官能基を付与することが可能であり、かつ露光後の後処理等が不要であるパターン形成体の製造方法を提供することを主目的とするものである。【解決手段】本発明は、高分子材料からなる特性変化層を有するパターン形成体用基板を調製するパターン形成体用基板調製工程と、光触媒を含有する光触媒含有層および基体を有する光触媒含有層側基板における前記光触媒含有層と前記特性変化層とを、200μm以下となるように間隙をおいて配置した後、所定の方向からエネルギーを照射することにより、前記高分子材料からなる特性変化層表面にパターン状に官能基を付与するパターン形成工程とを有することを特徴とするパターン形成体の製造方法を提供することにより上記課題を解決する。

Claim (excerpt)：

高分子材料からなる特性変化層を有するパターン形成体用基板を調製するパターン形成体用基板調製工程と、光触媒を含有する光触媒含有層および基体を有する光触媒含有層側基板における前記光触媒含有層と前記特性変化層とを、200μm以下となるように間隙をおいて配置した後、所定の方向からエネルギーを照射することにより、前記高分子材料からなる特性変化層表面にパターン状に官能基を付与するパターン形成工程とを有することを特徴とするパターン形成体の製造方法。

IPC (3)：

G01N 33/53 , C12N 11/00 , G01N 33/566

FI (3)：

G01N 33/53 M , C12N 11/00 , G01N 33/566

F-Term (6)：

4B033NA22 , 4B033NA42 , 4B033NB02 , 4B033NB13 , 4B033NB22 , 4B033NB33

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

パターン形成体の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-053774 Applicant：大日本印刷株式会社
パターン形成体の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-336284 Applicant：大日本印刷株式会社
容積型流体機械
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-144899 Applicant：株式会社日本自動車部品総合研究所, 株式会社デンソー

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