パターン形成体の製造方法およびそれに用いるフォトマスク

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：山下昭彦 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002086168
Publication number (International publication number)：2003295428
Application date： Mar. 26, 2002
Publication date： Oct. 15, 2003
Summary：

【要約】【課題】本発明は、パターン形成体の製造に際して、高精度にパターンを形成することが可能であり、露光後の後処理が不要で、かつ製造されたパターン形成体内に光触媒が含有されていないことから、パターン形成体自体の劣化の心配もないパターン形成体の製造方法を提供することを主目的とするものである。【解決手段】本発明は、光触媒の作用により表面の特性が変化する特性変化層を有するパターン形成体用基板を調製するパターン形成体用基板調製工程と、光触媒を含有する光触媒含有層が基材上に形成されてなる光触媒含有層側基板の光触媒含有層と上記特性変化層とを、200μm以下となるように間隙をおいて配置した後、所定の方向からエネルギーを照射することにより、上記特性変化層表面に特性の変化したパターンを形成するパターン形成工程とを有することを特徴とするパターン形成体の製造方法を提供することにより上記課題を解決する。

Claim (excerpt)：

光触媒の作用により表面の特性が変化する特性変化層を有するパターン形成体用基板を調製するパターン形成体用基板調製工程と、光触媒を含有する光触媒含有層が基材上に形成されてなる光触媒含有層側基板の光触媒含有層と前記特性変化層とを、200μm以下となるように間隙をおいて配置した後、所定の方向からエネルギーを照射することにより、前記特性変化層表面に特性の変化したパターンを形成するパターン形成工程とを有することを特徴とするパターン形成体の製造方法。

IPC (5)：

G03F 7/004 521 , B01J 35/02 , G02B 5/20 101 , G03F 1/08 , G03F 7/075 511

FI (5)：

G03F 7/004 521 , B01J 35/02 J , G02B 5/20 101 , G03F 1/08 A , G03F 7/075 511

F-Term (35)：

2H025AB13 , 2H025AC01 , 2H025AD01 , 2H025AD03 , 2H025BH03 , 2H048BA02 , 2H048BA45 , 2H048BA48 , 2H048BB02 , 2H048BB34 , 2H095BA12 , 2H095BB01 , 2H095BB06 , 2H095BC05 , 2H095BC27 , 4G069BA04A , 4G069BA04B , 4G069BA48A , 4G069BB04A , 4G069BB06A , 4G069BC12A , 4G069BC22A , 4G069BC23A , 4G069BC35A , 4G069BC50A , 4G069BC60A , 4G069BC66A , 4G069CD10 , 4G069DA05 , 4G069EA08 , 4G069EC22Y , 4G069FA03 , 4G069FB01 , 4G069FB23 , 4G069FB30

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

パターン形成体の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-053774 Applicant：大日本印刷株式会社
パターン形成体の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-182470 Applicant：大日本印刷株式会社
パターン形成体の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-336284 Applicant：大日本印刷株式会社

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