位置合せ方法および装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：伊東哲也 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996046874
Publication number (International publication number)：1997218714
Application date： Feb. 09, 1996
Publication date： Aug. 19, 1997
Summary：

【要約】【課題】位置の高次に依存する誤差要因を補正することができる位置合せ方法および装置を提供する。【解決手段】対象物上の、設計上の位置が定められた複数個所の位置合せ対象点のうちのいくつかについて設計位置との位置ずれ量を計測する位置計測工程S3と、複数個所の設計位置と位置ずれ量との関係を近似する近似式にいくつかの対象点の設計位置および位置ずれ量をあてはめ、対象点のそれぞれについてその設計位置に基づいて位置ずれ量を算出するための補正式を得る補正式作成工程S5と、得られた補正式に従い、位置合せ対象点をそれぞれ位置合せする位置合せ工程S6とを有する位置合せ方法において、補正式は、設計位置の2次以上の項を含む。

Claim (excerpt)：

対象物上の、設計上の位置が定められた複数個所の位置合せ対象点のうちのいくつかについて設計位置との位置ずれ量を計測する位置計測工程と、前記複数個所の設計位置と位置ずれ量との関係を近似する近似式に前記いくつかの対象点の設計位置および位置ずれ量をあてはめ、前記対象点のそれぞれについてその設計位置に基づいて位置ずれ量を算出するための補正式を得る補正式作成工程と、得られた補正式に従い、前記位置合せ対象点をそれぞれ位置合せする位置合せ工程とを有する位置合せ方法において、前記補正式は、設計位置の2次以上の項を含むことを特徴とする位置合せ方法。

IPC (4)：

G05D 3/12 , G01B 11/00 , G03F 9/00 , H01L 21/027

FI (4)：

G05D 3/12 T , G01B 11/00 C , G03F 9/00 H , H01L 21/30 525 W

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

位置合わせ方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-047493 Applicant：株式会社ニコン
位置合わせ方法および装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-059330 Applicant：キヤノン株式会社
特開平2-054103

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Cited by examiner (7)

位置合わせ方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-047493 Applicant：株式会社ニコン
位置合わせ方法および装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-059330 Applicant：キヤノン株式会社
特開平2-054103

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