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J-GLOBAL ID：200903043021973870

基板処理装置

Inventor：
瀧 昭彦

About 瀧 昭彦


Applicant, Patent owner：
大日本スクリーン製造株式会社

About 大日本スクリーン製造株式会社


Agent (1)： 吉田 茂明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000394157
Publication number (International publication number)：2002198276
Application date： Dec. 26, 2000
Publication date： Jul. 12, 2002
Summary：
【要約】【課題】 組み立て作業を簡便に行うことができる基板処理装置を提供する。【解決手段】 熱処理ブロック30と液処理ブロック10とを相互に分離して輸送し、輸送先の工場等において熱処理ブロック30を液処理ブロック10の上に接続して基板処理装置を組み立てる。このときに、熱処理ブロック30内の複数の熱処理ユニットに分岐接続された電力用コネクタ35を液処理ブロック10の電源と連結された電力用コネクタ19に接続することによって、すべての熱処理ユニットのそれぞれと電源とを接続することができる。わずかな接続作業にてすべての熱処理ユニットの用力接続を行うことができるため、基板処理装置の組み立て作業を簡便に行うことができる。
Claim (excerpt)：
基板に所定の処理を行う基板処理装置であって、それぞれが所定数の処理ユニットを有する相互に分離可能な複数の処理ブロックを備え、前記複数の処理ブロックのうち少なくとも1つは、複数の処理ユニットを一体に設けた集合処理ブロックであり、前記集合処理ブロックには、他の処理ブロックとの接続時に当該他の処理ブロックとの用力伝送のための用力接続部が用力の種類ごとに単一に設けられるとともに、前記単一の用力接続部から前記集合処理ブロックに含まれる各処理ユニットに分岐する用力分岐経路が設けられることを特徴とする基板処理装置。
F-Term (8)：
5F046JA04 ,  5F046JA22 ,  5F046JA27 ,  5F046KA04 ,  5F046KA10 ,  5F046LA01 ,  5F046LA18 ,  5F046LA19
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
  • 薬液供給方法および薬液供給装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-290525   Applicant：株式会社コガネイ
  • 処理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-240807   Applicant：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
  • 周辺露光装置およびそれを備えた基板処理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-302944   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
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Cited by examiner (4)
  • 薬液供給方法および薬液供給装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-290525   Applicant：株式会社コガネイ
  • 処理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-240807   Applicant：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
  • 周辺露光装置およびそれを備えた基板処理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-302944   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
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