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J-GLOBAL ID：200903043296624442

基板保持装置,基板処理装置,基板検査装置及び基板保持方法

Inventor：
田添 貴久

About 田添 貴久


Applicant, Patent owner：
HOYA株式会社

About HOYA株式会社


Agent (1)： 渡辺 喜平
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003332238
Publication number (International publication number)：2005101226
Application date： Sep. 24, 2003
Publication date： Apr. 14, 2005
Summary：
【課題】 エアーブローを利用して、自重による基板の歪み・撓みを低減することができ、また、好適に基板の取付け・取外しを行なうことができ、さらに、異なるサイズの基板にも対応することの可能な基板保持装置,基板処理装置,基板検査装置及び基板保持方法の提供を目的とする。【解決手段】 基板保持装置1は、基板10を平板状のステージ2に保持する基板保持装置1であって、ステージ2の上面に、載置面22を有する凸部21a,21b,21cと、基板10の下面に気体を吹き付けるための吐出孔25とを備え、凸部21a,21bが基板10を吸着保持する吸着孔23を有し、かつ、基板10の下面に吹き付けられた気体が水平方向に排気される。【選択図】 図2
Claim (excerpt)：
基板をステージに保持する基板保持装置であって、 前記ステージの上面に、凸部と、前記基板の下面に気体を吹き付けるための吐出孔とを備え、 前記凸部が、前記基板を部分的に載置する載置面と前記基板を保持する保持手段を有し、かつ、前記基板の下面に吹き付けられた気体が、水平方向に排気されることを特徴とする基板保持装置。
IPC (5)：
H01L21/027 ,  B23Q3/08 ,  G03F1/08 ,  G03F7/20 ,  H01L21/68
FI (6)：
H01L21/30 503A ,  B23Q3/08 A ,  G03F1/08 C ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/68 P ,  H01L21/30 541L
F-Term (14)：
2H095BB29 ,  2H095BE11 ,  3C016DA01 ,  5F031CA07 ,  5F031HA08 ,  5F031HA14 ,  5F031MA27 ,  5F031PA13 ,  5F031PA16 ,  5F046CC02 ,  5F046CC09 ,  5F046CC11 ,  5F046CD02 ,  5F056EA14
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2)
  • 実開平6-73760号公報(請求項1、図1)
  • ステージ及び露光装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-022758   Applicant：株式会社東芝
Cited by examiner (6)
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