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J-GLOBAL ID：200903043552662896

基板処理装置及び半導体装置の製造方法

Inventor：
油谷 幸則

About 油谷 幸則

, 
中嶋 誠世

About 中嶋 誠世


Applicant, Patent owner：
株式会社日立国際電気

About 株式会社日立国際電気


Agent (1)： 特許業務法人アイ・ピー・エス
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007167532
Publication number (International publication number)：2009010009
Application date： Jun. 26, 2007
Publication date： Jan. 15, 2009
Summary：
【課題】基板処理装置本体内に収納することができる処理容器の数を増やしつつ、装置が大型化することを抑制することができる基板処理装置を提供する。【解決手段】基板処理装置100は、ウエハ200を処理する処理炉202と、ウエハ200が収納されたポッド110を筺体111内に搬送し、筺体111から搬出するために用いられるロードポート114と、ロードポート114からポッド110を搬送するために用いられるポッド搬送機構118bと、少なくとも一部分が重力方向において処理炉202と重なるように上方に配置されている上部収納部250とを有する。【選択図】図4
Claim (excerpt)：
基板を処理する処理炉と、 基板が収納された収納容器を基板処理装置本体内に搬入し、前記基板処理装置本体内から搬出するために用いられる搬入搬出部と、 少なくとも前記搬入搬出部から前記収納容器を搬送するために用いられる搬送機構と、 前記搬送機構との間で前記収納容器を受渡し可能であって、前記収納容器を収納し、少なくとも一部分が重力方向において前記処理炉と重なるように上方に配置されている収納部と、 を有する基板処理装置。
IPC (4)：
H01L 21/31 ,  C23C 16/44 ,  H01L 21/22 ,  H01L 21/677
FI (4)：
H01L21/31 B ,  C23C16/44 F ,  H01L21/22 511B ,  H01L21/68 A
F-Term (58)：
4K030AA03 ,  4K030AA06 ,  4K030AA13 ,  4K030BA29 ,  4K030BA40 ,  4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030FA10 ,  4K030GA12 ,  4K030LA15 ,  5F031CA02 ,  5F031DA08 ,  5F031DA17 ,  5F031EA14 ,  5F031FA01 ,  5F031FA03 ,  5F031FA09 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA13 ,  5F031GA02 ,  5F031GA45 ,  5F031HA58 ,  5F031HA59 ,  5F031HA62 ,  5F031JA35 ,  5F031KA07 ,  5F031KA08 ,  5F031KA14 ,  5F031LA07 ,  5F031LA13 ,  5F031MA02 ,  5F031MA11 ,  5F031MA28 ,  5F031MA30 ,  5F031NA09 ,  5F031PA18 ,  5F045AA06 ,  5F045AB03 ,  5F045AB33 ,  5F045AC01 ,  5F045AC02 ,  5F045AC12 ,  5F045AD07 ,  5F045AD08 ,  5F045AD09 ,  5F045AD10 ,  5F045AD11 ,  5F045AE21 ,  5F045AE23 ,  5F045AF03 ,  5F045BB08 ,  5F045DP19 ,  5F045DP28 ,  5F045DQ05 ,  5F045EK06 ,  5F045EN04 ,  5F045EN05
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1)
  • 基板処理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-017267   Applicant：国際電気株式会社
Cited by examiner (2)

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