Pat
J-GLOBAL ID:200903043769768854

製造工程のための管理方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 大西 健治
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001122621
Publication number (International publication number):2002318617
Application date: Apr. 20, 2001
Publication date: Oct. 31, 2002
Summary:
【要約】【課題】 製造工程における異常状態を正確に判定することができる管理方法を提供する。【解決手段】 本発明の管理方法は、製造工程の正常状態下における複数の製造管理パラメータのデータをサンプリングして第1のサンプリングデータを準備し、第1のサンプリングデータに基づいて複数の製造管理パラメータ毎のマハラノビス空間を作成し、製造工程の稼動時における複数の製造管理パラメータのデータを所定の周期でサンプリングして第2のサンプリングデータを準備し、マハラノビス空間および第2のサンプリングデータからマハラノビス距離を算出し、マハラノビス距離と所定値とを比較することにより、製造工程が異常状態であるか否かを判定する。
Claim (excerpt):
複数の工程を含む製造工程の正常状態下における複数の製造管理パラメータのデータをサンプリングし、第1のサンプリングデータを準備し、前記第1のサンプリングデータに基づいて前記複数の製造管理パラメータのマハラノビス空間を作成し、前記製造工程の稼動時における前記複数の製造管理パラメータのデータを所定の周期でサンプリングし、第2のサンプリングデータを準備し、前記マハラノビス空間および前記第2のサンプリングデータからマハラノビス距離を算出し、前記マハラノビス距離と所定値とを比較することにより、前記製造工程が異常状態であるか否かを判定することを特徴とする製造工程のための管理方法。
IPC (4):
G05B 23/02 302 ,  G05B 19/418 ,  G06F 17/60 108 ,  H01L 21/02
FI (4):
G05B 23/02 302 R ,  G05B 19/418 Z ,  G06F 17/60 108 ,  H01L 21/02 Z
F-Term (13):
3C100AA29 ,  3C100AA56 ,  3C100BB33 ,  3C100BB40 ,  3C100CC02 ,  3C100CC08 ,  5H223AA05 ,  5H223AA15 ,  5H223CC08 ,  5H223CC09 ,  5H223DD09 ,  5H223EE06 ,  5H223EE30
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
Show all

Return to Previous Page