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J-GLOBAL ID：200903043820838765

酸素分離膜用支持体及びその製造方法

Inventor：
高橋 洋祐

About 高橋 洋祐

, 
田口 久富

About 田口 久富


Applicant, Patent owner：
株式会社ノリタケカンパニーリミテド

About 株式会社ノリタケカンパニーリミテド


Agent (1)： 特許業務法人快友国際特許事務所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003206216
Publication number (International publication number)：2005052698
Application date： Aug. 06, 2003
Publication date： Mar. 03, 2005
Summary：
【課題】酸素分離膜と熱膨張率差が少なく、かつ高い酸素イオン伝導性を維持し得る酸素分離膜用支持体及びその製造方法を提供する。【解決手段】本発明によって提供される酸素分離膜用支持体は、一般式:La1-xAexMO3で示される複合酸化物、安定化ジルコニア、及び酸化セリウムからなる群から選ばれる少なくとも1種から構成され、平均細孔径rが0.1μm<r<20μmの範囲であり、気孔率pが5%≦p≦60%の範囲である。このような高い酸素イオン伝導性を維持し得る支持体は、平均粒径が10μm以上である原料粉末を用いて、成形、焼成することにより、容易かつ安定して製造することができる。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
一般式:La1-xAexMO3 ここで式中、Aeは、Ba、Sr及びCaからなる群から選ばれる1種又は2種以上の組み合わせであり、MはFe、Mn、Ga、Ti、Co、Ni、Al、In、Sn及びZrからなる群から選ばれる1種又は2種以上の組み合わせであり、xは0<x<1を満たす; で示される複合酸化物粉末、安定化ジルコニア粉末、及び酸化セリウム粉末からなる群から選ばれる少なくとも1種の原料粉末であって、平均粒径10μm以上の原料粉末を用意する工程と、 該原料粉末を用いて所定形状の成形体を成形する工程と、 該成形体を1200〜1800°Cにて、酸化性雰囲気又は不活性ガス雰囲気下で焼成する工程と、を有する、酸素分離膜用支持体の製造方法。
IPC (5)：
B01D69/10 ,  B01D53/22 ,  C04B35/48 ,  C04B35/495 ,  C04B35/50
FI (5)：
B01D69/10 ,  B01D53/22 ,  C04B35/48 B ,  C04B35/50 ,  C04B35/00 J
F-Term (31)：
4D006GA41 ,  4D006JA03C ,  4D006MA09 ,  4D006PA02 ,  4D006PB62 ,  4G030AA08 ,  4G030AA09 ,  4G030AA10 ,  4G030AA13 ,  4G030AA16 ,  4G030AA17 ,  4G030AA25 ,  4G030AA27 ,  4G030AA28 ,  4G030AA29 ,  4G030AA34 ,  4G030AA36 ,  4G030AA39 ,  4G030BA02 ,  4G030BA03 ,  4G030CA09 ,  4G030GA03 ,  4G030GA04 ,  4G030GA08 ,  4G030GA11 ,  4G030GA14 ,  4G030GA16 ,  4G030GA21 ,  4G030GA24 ,  4G030GA25 ,  4G030GA27
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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