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J-GLOBAL ID:200903044363048954
一貫生産型のベイ内バッファ・デリベリ・ストッカシステム
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
中村 稔 (外9名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):1998543930
Publication number (International publication number):2001520803
Application date: Mar. 26, 1998
Publication date: Oct. 30, 2001
Summary:
【要約】ポッドをX-Z平面内で、ベイ間搬送システムと、種々のプロセスツール(102)のI/Oポート(104)と、ツールベイの壁に沿って設けられた複数の保管棚(106)との間で独力で搬送できる一対のシャットル(116)を含む一貫生産型(統合型)ベイ内バッファ・デリベリ・ストッカシステム。有利には、本発明により、各プロセスツール(102)が単一の搬送機構を共用すると共に各プロセスツール(102)がポッド用の単一の大型保管兼一時収納領域を共用するようにすることによりプロセスツール(102)がツールベイ内にひとまとめに組み込まれる。これにより、信頼性及び融通性が向上し、しかもハードウエア及びソフトウエアによる制御が簡単になる。さらに、保管棚(106)をツールベイ内でプロセスツール(102)のうち幾つか又は全ての上方に設けるのがよい。このように配置することにより、従来型ツールベイと比較して実質的に多数のポッド保管スペースが得られる。
Claim (excerpt):
半導体ツールベイ内で複数のポッドを複数の半導体プロセスツールの入力/出力(I/O)ポートに供給するシステムであって、 プロセスツールを収納したツールベイの壁に沿って設けられた複数の保管場所を有し、 前記複数の保管場所は各々、ポッドをツールベイ内の任意のプロセスツールに供給できることを特徴とするシステム。
IPC (3):
H01L 21/68
, B65G 1/00 501
, B65G 1/00 535
FI (3):
H01L 21/68 A
, B65G 1/00 501 A
, B65G 1/00 535
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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真空処理装置およびそれを用いた半導体製造ライン
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-182921
Applicant:株式会社日立製作所
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ロット自動編成装置及び方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-162832
Applicant:三菱電機株式会社
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クリーンルーム用保管庫
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-012311
Applicant:神鋼電機株式会社
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特開平1-278740
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基板処理装置のキャリア搬入・搬出装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-284078
Applicant:大日本スクリーン製造株式会社
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特開平4-039953
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