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J-GLOBAL ID:200903044483291917

ドライフィルムを使用したフォトレジスト形成用積層板の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 萼 経夫 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999035871
Publication number (International publication number):2000235257
Application date: Feb. 15, 1999
Publication date: Aug. 29, 2000
Summary:
【要約】【課題】 ドライフィルムを積層して使用するための特定の表面塗布剤を塗布した基板の提供。【解決手段】 基板上に、(A)側鎖にカルボキシル基とビニル基を有する特定の変性重合体、(B)炭素数7以上の鎖状及び/又は環状構造のアルカンジオール類のジ(メタ)アクリレートからなる光重合性ビニルモノマー、(C)有機溶媒、(D)光重合開始剤、(E)ハレーション防止剤からなるタックフリー性のアルカリ現像型光硬化性樹脂組成物を塗布してなるドライフィルム用基板及びその製法。
Claim (excerpt):
基板上に、下引層としてタックフリー性のアルカリ現像型光硬化性樹脂組成物を均一に塗布し、乾燥させた後、次いでその上にドライフィルムを圧着積層させることを特徴とするドライフィルムを使用したフォトレジスト形成用積層板の製造方法。
IPC (3):
G03F 7/004 512 ,  G03F 7/027 502 ,  H05K 3/06
FI (3):
G03F 7/004 512 ,  G03F 7/027 502 ,  H05K 3/06 J
F-Term (36):
2H025AA00 ,  2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AB11 ,  2H025AB15 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC14 ,  2H025BC43 ,  2H025BC53 ,  2H025BC83 ,  2H025BC85 ,  2H025BC86 ,  2H025CC03 ,  2H025CC12 ,  2H025CC13 ,  2H025DA11 ,  2H025DA18 ,  2H025DA20 ,  2H025DA34 ,  2H025DA40 ,  2H025EA01 ,  2H025EA04 ,  2H025EA10 ,  2H025FA17 ,  5E339AD01 ,  5E339AD03 ,  5E339BC02 ,  5E339CC01 ,  5E339CC02 ,  5E339CC10 ,  5E339CD01 ,  5E339CE12 ,  5E339CE16 ,  5E339CF15 ,  5E339DD02
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
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