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J-GLOBAL ID:200903044774258607
マスクパターンの作製方法及びフォトマスク
Inventor:
,
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
鈴江 武彦 (外6名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998182431
Publication number (International publication number):2000019708
Application date: Jun. 29, 1998
Publication date: Jan. 21, 2000
Summary:
【要約】【課題】 データ量の爆発的な増大を抑え、所望の転写パターンを高精度で作製する。【解決手段】 露光装置を介して被露光基板上に所望のパターンを形成するために用いるマスクパターンの作製方法において、予め定められたサイズ以下の範囲のパターン配置に依存して補正量が決定される第1の成分に関する補正を設計データに対して加える工程と、この補正された設計データをマスク描画データに変換する工程と、このマスク描画データを描画装置に導入して描画を行う際に第1の成分以外の第2の成分に関する補正を行う工程とを含む。
Claim (excerpt):
露光装置を介して被露光基板上に所望のパターンを形成するために用いるマスクパターンの作製方法において、予め定められたサイズ以下の範囲のパターン配置に依存して補正量が決定される第1の成分に関する補正を設計データに対して加える工程と、この補正された設計データをマスク描画データに変換する工程と、このマスク描画データを描画装置に導入して描画を行う際に前記第1の成分以外の第2の成分に関する補正を行う工程とを含むことを特徴とするマスクパターンの作製方法。
IPC (2):
FI (2):
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
F-Term (3):
2H095BB01
, 2H095BB10
, 2H095BB36
Patent cited by the Patent: