全反射蛍光X線分析方法及び装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：野口繁雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006231713
Publication number (International publication number)：2007093593
Application date： Aug. 29, 2006
Publication date： Apr. 12, 2007
Summary：

【課題】1次X線の強度を低下させることなく試料の微小領域に集光させることができるようにする。【解決手段】試料1を載置する試料台13と、1次X線を試料1の表面に対し全反射を起こす入射角で入射させる1次X線照射部2と、試料1の表面に対向して配置され、試料1から発生する蛍光X線を検出する検出器11とを備えている。1次X線照射部2は1次X線を発生するX線源3、及びその1次X線を集光して試料1に照射するポリキャピラリーX線レンズ5を備え、さらに好ましくはポリキャピラリーX線レンズ5から出射した1次X線のうち試料表面に対して全反射条件を満たさない入射角をもつ1次X線を遮蔽するスリット7を備えている。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

X線源からの1次X線を試料表面に向かって全反射を起こす入射角で入射させ、前記試料表面に対向させた検出器で前記1次X線を受けた試料表面から発生する蛍光X線を検出する全反射蛍光X線分析方法において、前記試料表面に照射する1次X線を、ポリキャピラリーX線レンズを用いて集光させることを特徴とする全反射蛍光X線分析方法。

IPC (3)：

G01N 23/223 , G21K 1/00 , G21K 1/06

FI (3)：

G01N23/223 , G21K1/00 X , G21K1/06 B

F-Term (25)：

2G001AA01 , 2G001BA04 , 2G001CA01 , 2G001EA03 , 2G001EA06 , 2G001EA09 , 2G001FA02 , 2G001GA01 , 2G001GA13 , 2G001HA09 , 2G001HA13 , 2G001JA04 , 2G001JA12 , 2G001KA01 , 2G001LA11 , 2G001MA05 , 2G001NA02 , 2G001NA07 , 2G001PA11 , 2G001PA12 , 2G001PA14 , 2G001SA02 , 2G001SA10 , 2G001SA29 , 2G001SA30

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

全反射蛍光X線分析方法および分析装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-131370 Applicant：理学電機工業株式会社, 株式会社東芝

Cited by examiner (7)

X線蛍光分光システム及びX線蛍光分光方法
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2003-505939 Applicant：エックス-レイオプティカルシステムズインコーポレーテッド
全反射蛍光X線分析方法および分析装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-131370 Applicant：理学電機工業株式会社, 株式会社東芝
全反射蛍光X線分析装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-215672 Applicant：株式会社日立製作所

Show all

Return to Previous Page