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J-GLOBAL ID：200903045048233820

回折格子作製方法

Inventor：
納谷 昌之

About 納谷 昌之

, 
福永 敏明

About 福永 敏明


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (1)： 柳田 征史 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999194056
Publication number (International publication number)：2001021710
Application date： Jul. 08, 1999
Publication date： Jan. 26, 2001
Summary：
【要約】【課題】 極めて微細な周期の回折格子を作製する。【解決手段】 母材11上にエッチングにより除去可能な第1レジスト層21と、光照射による照射部分のみまたは非照射部分のみが現像溶媒に可溶となる感光性の第2レジスト層22とをこの順に形成し、露光光Lを受けて回折格子パターンの近接場光27を発生させる手段24により、前記第2レジスト層22にこの近接場光27を照射する。次いでこの第2レジスト層22を現像することにより該第2レジスト層22に回折格子パターンを形成し、このパターンをエッチングマスクとして第1レジスト層21をエッチングすることにより、これらのレジスト層21,22からなる回折格子パターンを形成し、さらにこれらのレジスト層21,22のパターンをエッチングマスクとして母材11をエッチングすることにより、該母材11上に回折格子を形成する。
Claim (excerpt)：
母材上に光照射による照射部分のみまたは非照射部分のみが現像溶媒に可溶となる感光性のレジスト層を形成し、照射光を受けて回折格子パターンの近接場光を発生させる手段により、前記レジスト層にこの近接場光を照射し、このレジスト層を現像することにより該レジスト層に回折格子パターンを形成し、このレジスト層のパターンをエッチングマスクとして前記母材をエッチングすることにより、該母材上に回折格子を形成することを特徴とする回折格子作製方法。
IPC (3)：
G02B 5/18 ,  H01L 21/027 ,  H01S 5/12
FI (4)：
G02B 5/18 ,  H01S 5/12 ,  H01L 21/30 505 ,  H01L 21/30 573
F-Term (30)：
2H049AA03 ,  2H049AA13 ,  2H049AA33 ,  2H049AA37 ,  2H049AA44 ,  2H049AA48 ,  2H049AA55 ,  2H049AA62 ,  5F046BA01 ,  5F046BA02 ,  5F046CA07 ,  5F046CA10 ,  5F046CB17 ,  5F046LA17 ,  5F046LB01 ,  5F046NA01 ,  5F046NA14 ,  5F046NA15 ,  5F046NA17 ,  5F046NA18 ,  5F073AA13 ,  5F073AA64 ,  5F073AA65 ,  5F073AA71 ,  5F073AA74 ,  5F073CA07 ,  5F073CB05 ,  5F073CB06 ,  5F073DA25 ,  5F073DA35
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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