Pat
J-GLOBAL ID:200903032096574686
濡れ性変化性基板および濡れ性変化性層形成用組成物
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
山下 昭彦
, 岸本 達人
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003185454
Publication number (International publication number):2004126517
Application date: Jun. 27, 2003
Publication date: Apr. 22, 2004
Summary:
【課題】本発明は、白濁が無く、基板との密着性、透明性、撥液性が優れた濡れ性変化性層を有する濡れ性変化性基板を提供することを主目的とするものである。【解決手段】上記目的を達成するために、光触媒の存在下で露光されて濡れ性が変化する濡れ性変化性層を基板上に有し、前記濡れ性変化性層が、(A)YnSiX(4-n)(Yはアルキル基もしくはフルオロアルキル基、またはこれらを含む置換基、Xはアルコキシル基、アセチル基、またはハロゲンをそれぞれ示し、Yの添え字nおよびXの添え字4-n中のnは1〜3の整数である。)で示されるオルガノポリシロキサン前駆体の1種もしくは2種以上、および(B)SiX4(Xは上記と同様である。)で示される無定形シリカ前駆体を、質量比で、(A)/(B)=1/0.1〜1/20で用いて得られた共加水分解縮重合物であるオルガノポリシロキサンを含有することを特徴とする濡れ性変化性基板を提供する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
光触媒の存在下で露光されて濡れ性が変化する濡れ性変化性層を基板上に有し、前記濡れ性変化性層が、(A)YnSiX(4-n)(Yはアルキル基もしくはフルオロアルキル基、またはこれらを含む置換基、Xはアルコキシル基、アセチル基、またはハロゲンをそれぞれ示し、Yの添え字nおよびXの添え字4-n中のnは1〜3の整数である。)で示されるオルガノポリシロキサン前駆体の1種もしくは2種以上、および(B)SiX4(Xは上記と同様である。)で示される無定形シリカ前駆体を、質量比で、(A)/(B)=1/0.1〜1/20で用いて得られた共加水分解縮重合物であるオルガノポリシロキサンを含有することを特徴とする濡れ性変化性基板。
IPC (5):
G03F7/004
, B32B7/02
, C09D183/04
, G02B1/10
, G02B5/20
FI (5):
G03F7/004 521
, B32B7/02 103
, C09D183/04
, G02B5/20 101
, G02B1/10 Z
F-Term (65):
2H025AB13
, 2H025AB14
, 2H025AB17
, 2H025AC01
, 2H025AC08
, 2H025AD01
, 2H025AD03
, 2H025BH03
, 2H025CB33
, 2H048BB15
, 2H048BB28
, 2K009CC09
, 2K009CC42
, 2K009EE02
, 4F100AA21
, 4F100AB13
, 4F100AG00
, 4F100AH02J
, 4F100AH05J
, 4F100AH06J
, 4F100AK52A
, 4F100AK79A
, 4F100AL01A
, 4F100AR00A
, 4F100AT00B
, 4F100BA02
, 4F100GB43
, 4F100GB90
, 4F100JB05A
, 4F100JB06
, 4F100JK06
, 4F100JL08A
, 4F100JM02
, 4F100JN01
, 4F100JN17A
, 4J038DL031
, 4J038DL071
, 4J038HA236
, 4J038HA336
, 4J038HA366
, 4J038HA416
, 4J038JA19
, 4J038JB03
, 4J038JB04
, 4J038KA06
, 4J038NA06
, 4J038NA07
, 4J038NA12
, 4J038PB08
, 4J038PB09
, 4J038PC03
, 4J246AA03
, 4J246BA010
, 4J246BA05X
, 4J246BA050
, 4J246BA160
, 4J246BA260
, 4J246BB02X
, 4J246BB020
, 4J246CA46X
, 4J246CA460
, 4J246FA071
, 4J246FB051
, 4J246GB05
, 4J246HA15
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (13)
-
濡れ性可変皮膜用組成物、及び、濡れ性可変皮膜
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-332380
Applicant:大日本印刷株式会社
-
被膜形成用組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-237490
Applicant:信越化学工業株式会社
-
撥液膜の形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-320063
Applicant:トヨタ自動車株式会社
-
フルオロアルキル基含有ポリシロキサン、低誘電率樹脂組成物及び物品
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-024398
Applicant:日立化成工業株式会社, 旭硝子株式会社
-
撥水性ガラスコートの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-162259
Applicant:松下電器産業株式会社
-
筒内噴射式内燃機関の燃料噴射弁
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-319559
Applicant:トヨタ自動車株式会社
-
有機珪素重合体及び半導体装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-033769
Applicant:富士通株式会社
-
撥水皮膜形成溶液
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-121372
Applicant:アイシン精機株式会社, トヨタ自動車株式会社
-
撥水撥油防汚処理液、および撥水撥油防汚処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-333623
Applicant:日本板硝子株式会社, 信越化学工業株式会社
-
複合材およびそれを用いたパターン形成体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-281521
Applicant:大日本印刷株式会社
-
光触媒含有組成物、濡れ性変化皮膜、及び、濡れ性変化樹脂組成物の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-097055
Applicant:大日本印刷株式会社
-
パターン形成体の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-053774
Applicant:大日本印刷株式会社
-
パターン形成用の光触媒含有膜およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-345306
Applicant:大日本印刷株式会社
Show all
Return to Previous Page