感光性重合体

Inventor： , , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：八田幹雄 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000254566
Publication number (International publication number)：2001098031
Application date： Aug. 24, 2000
Publication date： Apr. 10, 2001
Summary：

【要約】【課題】 193nm以下の短波長の露光源下でも透明であり、基板に対する接着力に優れているほか、高コントラストで耐ドライエッチング性に優れている感光性重合体を提供する。【解決手段】本発明による感光性重合体は、脂環式炭化水素カルボン酸エステルに酸によって加水分解される炭素数8〜20の第三脂環式炭化水素基で置換されたモノマーと、このモノマーとラジカル重合反応を起こし得るモノマーを基本モノマーとする重合体である。

Claim (excerpt)：

炭素数8〜20の第三脂環式炭化水素基で置換された、酸によって加水分解されて脂環式炭化水素カルボン酸エステルを生じる第1モノマーと、ラジカル重合反応をし得る第2モノマーとを重合してなる感光性重合体。

IPC (8)：

C08F220/12 , C08F220/02 , C08F220/28 , C08F222/06 , C08F232/04 , C08L 45/00 , G03F 7/039 601 , H01L 21/027

FI (8)：

C08F220/12 , C08F220/02 , C08F220/28 , C08F222/06 , C08F232/04 , C08L 45/00 , G03F 7/039 601 , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

レジスト材料及びレジストパターンの形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-112698 Applicant：富士通株式会社
遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-136918 Applicant：富士写真フイルム株式会社
(メタ)アクリレート、重合体、フォトレジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-099064 Applicant：日本電気株式会社

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Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

Carbon-Rich Cyclopolymers:Their Synthesis,Etch Resistance,and Application to 193 nm Microlithhograph

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