Pat
J-GLOBAL ID：200903045656872631

外観検査装置および外観検査方法

Inventor：
杉村 克弥

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久保 雅樹

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菅野 誠

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西山 巧

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角田 隆

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Applicant, Patent owner：
株式会社ニッケ機械製作所

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株式会社マルチリンク

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Agent (1)： 志賀 正武 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001318114
Publication number (International publication number)：2003121115
Application date： Oct. 16, 2001
Publication date： Apr. 23, 2003
Summary：
【要約】【課題】 スリット光を機械的に走査させることなく、基板の良否を精度よく判定する。【解決手段】 基板2を一方向に搬送可能な基板搬送手段3と、基板2の搬送方向に沿って強度が周期的に変化する光パターンを基板2の表面に照射する光パターン照射手段4と、基板2の上方に基板に対向して配置された撮像手段5と、撮像された基板2の画像上の光の強度分布に基づいて位相シフト法により基板2の各部位の高さ情報を求める高さ情報演算手段6と、求められた高さ情報に基づいて基板の良否を判定する判定手段7とを備え、基準となる基板2aを撮像して得られた画像から求められる高さ情報と、検査対象となる基板2bを撮像して得られた画像から求められる高さ情報との相違に基づいて基板2bの良否を判定する外観検査装置1を提供する。
Claim (excerpt)：
基板を一方向に搬送可能な基板搬送手段と、基板の搬送方向に沿って強度が周期的に変化する光パターンを基板の表面に照射する光パターン照射手段と、基板の上方に基板に対向して配置された撮像手段と、撮像された基板の画像上の光の強度分布に基づいて位相シフト法により基板の各部位の高さ情報を求める高さ情報演算手段と、求められた高さ情報に基づいて基板の良否を判定する判定手段とを備え、前記撮像手段が、前記光パターンの周期とは異なる周期で等間隔をあけた、基板の搬送方向に交差する方向に延びる少なくとも3本の平行線に沿って基板表面を撮像するラインセンサを備えるとともに、前記判定手段が、基準となる基板を撮像して得られた画像から求められる基板各部の高さ情報と、検査対象となる基板を撮像して得られた画像から求められる基板各部の高さ情報との相違に基づいて基板の良否を判定する外観検査装置。
IPC (4)：
G01B 11/02 ,  G01N 21/956 ,  H05K 3/00 ,  H05K 3/34 512
FI (4)：
G01B 11/02 H ,  G01N 21/956 B ,  H05K 3/00 Q ,  H05K 3/34 512 B
F-Term (37)：
2F065AA24 ,  2F065BB02 ,  2F065CC01 ,  2F065DD06 ,  2F065FF04 ,  2F065FF51 ,  2F065GG12 ,  2F065HH07 ,  2F065HH12 ,  2F065JJ02 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ09 ,  2F065JJ25 ,  2F065MM03 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ31 ,  2F065RR00 ,  2F065SS04 ,  2G051AA65 ,  2G051AB14 ,  2G051AC30 ,  2G051BA10 ,  2G051BA20 ,  2G051BB01 ,  2G051CA03 ,  2G051CA07 ,  2G051DA06 ,  2G051EA08 ,  2G051EA09 ,  2G051EB01 ,  5E319AC01 ,  5E319BB05 ,  5E319CC22 ,  5E319CD53 ,  5E319GG03
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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Article cited by the Patent：
Cited by examiner (1)

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