積層光学素子及びその製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005222719
Publication number (International publication number)：2007041117
Application date： Aug. 01, 2005
Publication date： Feb. 15, 2007
Summary：

【課題】光学特性を良好にして伝播損失が少ない、生産性を向上した積層光学素子及びその製造方法を提供する。【解決手段】水晶板又はガラス板からなる光学板の複数枚を貼り合わせてなる積層光学素子において、前記ガラス板の接合面には酸化珪素膜(SiO2膜)が設けられ、前記光学板の接合面は原子間結合によって直接接合された構成とする。また、水晶ウェハ又はガラスウェハからなる光学ウェハの複数枚を貼り合わせて積層光学ウェハを形成した後、前記積層光学ウェハを個々の積層光学素子に切断分割してなる積層光学素子の製造方法において、前記ガラスウェハの接合面には酸化珪素膜(SiO2膜)を形成して光学ウェハとし、前記光学ウェハの複数を原子間結合によって直接接合してなる製造方法とする。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

水晶板又はガラス板からなる光学板の複数枚を貼り合わせてなる積層光学素子において、前記ガラス板の接合面には酸化珪素膜(SiO2膜)が設けられ、前記光学板の接合面は原子間結合によって直接接合されたことを特徴とする積層光学素子。

IPC (2)：

G02B 5/30 , C03C 27/10

FI (2)：

G02B5/30 , C03C27/10 B

F-Term (11)：

2H049BA06 , 2H049BA42 , 2H049BB51 , 2H049BC14 , 2H049BC21 , 4G061AA15 , 4G061BA12 , 4G061CB12 , 4G061CD02 , 4G061DA23 , 4G061DA29

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

光学素子及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-177500 Applicant：日本電波工業株式会社
光学素子の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-301269 Applicant：日本電波工業株式会社
基板の直接接合方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-070533 Applicant：日本電波工業株式会社

Show all

Return to Previous Page