Pat
J-GLOBAL ID:200903046101312572
フォトレジスト用高分子化合物及びその製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
後藤 幸久
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000343762
Publication number (International publication number):2002145954
Application date: Nov. 10, 2000
Publication date: May. 22, 2002
Summary:
【要約】 (修正有)【課題】 各モノマーユニットが偏在せず、分子間や分子内で組成分布の小さく、しかもエッチング耐性に優れたフォトレジスト用高分子化合物を得る。【解決手段】 (A)式1、(B)式2又は3の少なくとも1種、(C)式4の置換基を有するアダマンタン環を有する(メタ)アクリル酸エステルの3種の(メタ)アクリル酸エステルを含む単量体混合物を共重合したフォトレジスト用高分子化合物。(R2、R12、R13は水素又は炭素数1〜3の炭化水素基。R14は炭素数6〜20の有橋脂環式炭化水素基。R16はメチル基等。R18、R19は、水素、ヒドロキシル基、オキソ基又はカルボキシル基。但し、R18及びR19は同時に水素ではない。p、q、r及びsは0又は1。但し、p+q+r+s=2〜4)
Claim (excerpt):
(A)下記式(1)【化1】(式中、R1は水素原子又はメチル基を示す。R2は水素原子又は炭素数1〜3の炭化水素基を示す。R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9及びR10は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を示す。p、q、r及びsは、それぞれ独立に、0又は1を示す。但し、p+q+r+s=2〜4である)で表される5〜7員のラクトン環を有する(メタ)アクリル酸エステル、(B)下記式(2)【化2】(式中、R11は水素原子又はメチル基を示す。R12及びR13は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜3の炭化水素基を示す。R14は炭素数6〜20の有橋脂環式炭化水素基を示す。tは0〜5の整数を示す)で表される有橋脂環式炭化水素基を有する(メタ)アクリル酸エステル、及び下記式(3)【化3】(式中、R15は水素原子又はメチル基を示す。R16はメチル基又はエチル基を示す)で表されるアダマンタン環を有する(メタ)アクリル酸エステルから選択された少なくとも1種の(メタ)アクリル酸エステル、及び(C)下記式(4)【化4】(式中、R17は水素原子又はメチル基を示す。R18及びR19は、アダマンタン環に結合している置換基であり、それぞれ独立に、水素原子、ヒドロキシル基、オキソ基又はカルボキシル基を示す。但し、R18及びR19の少なくとも一方は、ヒドロキシル基、オキソ基又はカルボキシル基である)で表される置換基を有するアダマンタン環を有する(メタ)アクリル酸エステルの3種の(メタ)アクリル酸エステルを少なくとも含む単量体混合物を共重合して得られるフォトレジスト用高分子化合物。
IPC (5):
C08F220/28
, C08K 5/00
, C08L 33/14
, G03F 7/039 601
, H01L 21/027
FI (5):
C08F220/28
, C08K 5/00
, C08L 33/14
, G03F 7/039 601
, H01L 21/30 502 R
F-Term (33):
2H025AA02
, 2H025AA09
, 2H025AA14
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025BJ10
, 2H025CB14
, 2H025CB41
, 2H025CB51
, 2H025FA17
, 4J002BG071
, 4J002EB106
, 4J002EQ036
, 4J002EV296
, 4J002GP03
, 4J100AL08P
, 4J100AL08Q
, 4J100AL08R
, 4J100BA03R
, 4J100BA16R
, 4J100BC09Q
, 4J100BC09R
, 4J100BC27Q
, 4J100BC53P
, 4J100CA05
, 4J100DA01
, 4J100DA39
, 4J100JA38
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
-
フォトレジスト用高分子化合物及びフォトレジスト用樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-312329
Applicant:株式会社東芝, ダイセル化学工業株式会社
-
化学増幅型ポジ型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-315265
Applicant:住友化学工業株式会社
-
化学増幅型ポジ型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-083605
Applicant:住友化学工業株式会社
Return to Previous Page