化学増幅型ポジ型レジスト組成物

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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：久保山隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999083605
Publication number (International publication number)：2000275843
Application date： Mar. 26, 1999
Publication date： Oct. 06, 2000
Summary：

【要約】【課題】基板への接着性やドライエッチング耐性に優れるとともに、感度や解像度も改良された化学増幅型のポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】メタクリル酸2-ヒドロキシエチルの重合単位及び酸に不安定な基を持つ重合単位を有し、それ自体はアルカリに不溶又は難溶であるが、酸の作用により上記酸に不安定な基が解裂した後はアルカリ可溶となる樹脂、並びに酸発生剤を含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物が提供される。この樹脂はまた、他の単位、例えば(メタ)アクリル酸3-ヒドロキシ-1-アダマンチル、ラクトン環がアルキルで置換されてもよいα-(メタ)アクリロイロキシ-γ-ブチロラクトン、無水マレイン酸などのモノマーの重合単位を有してもよい。

Claim (excerpt)：

メタクリル酸2-ヒドロキシエチルの重合単位及び酸に不安定な基を持つ重合単位を有し、それ自体はアルカリに不溶又は難溶であるが、酸の作用により上記酸に不安定な基が解裂した後はアルカリ可溶となる樹脂、並びに酸発生剤を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。

IPC (2)：

G03F 7/039 601 , H01L 21/027

FI (2)：

G03F 7/039 601 , H01L 21/30 502 R

F-Term (14)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA09 , 2H025AA14 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BG00 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025CB52 , 2H025CC20

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (10)

感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-226175 Applicant：日本合成ゴム株式会社
レジスト材料及びレジストパターンの形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-050264 Applicant：富士通株式会社
放射線感光材料及びパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-276597 Applicant：富士通株式会社

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