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J-GLOBAL ID：200903046189901130

縦型熱処理装置

Inventor：
齋藤 幸正

About 齋藤 幸正


Applicant, Patent owner：
東京エレクトロン株式会社

About 東京エレクトロン株式会社


Agent (1)： 金坂 憲幸
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000184310
Publication number (International publication number)：2002009009
Application date： Jun. 20, 2000
Publication date： Jan. 11, 2002
Summary：
【要約】【課題】 装置高さを低くすることができると共に、ガス導入部の強度の向上、処理容器の構造の簡素化やプロセス性能の向上等が図れる装置高さを縦型熱処理装置を提供する。【解決手段】 下端が開口されその開口4周縁部にフランジ5を有する処理容器3内に被処理体wを収容し、該処理容器3の開口4を開閉可能な蓋体24により密閉して被処理体wに所定の熱処理を施す縦型熱処理装置1において、前記処理容器3のフランジ5に処理容器3内に処理ガスを導入するガス導入部6を設けている。
Claim (excerpt)：
下端が開口されその開口周縁部にフランジを有する処理容器内に被処理体を収容し、該処理容器の開口を開閉可能な蓋体により密閉して被処理体に所定の熱処理を施す縦型熱処理装置において、前記処理容器のフランジに処理容器内に処理ガスを導入するガス導入部を設けたことを特徴とする縦型熱処理装置。
IPC (3)：
H01L 21/22 511 ,  C23C 16/455 ,  H01L 21/205
FI (3)：
H01L 21/22 511 S ,  C23C 16/455 ,  H01L 21/205
F-Term (14)：
4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030EA06 ,  4K030KA04 ,  4K030KA05 ,  5F045BB08 ,  5F045DP19 ,  5F045DP28 ,  5F045DQ05 ,  5F045EC01 ,  5F045EC07 ,  5F045EF02 ,  5F045EF08 ,  5F045EF20
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (8)
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