Pat
J-GLOBAL ID:200903046540054911
窒化物系半導体基板およびその製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
平田 忠雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005319630
Publication number (International publication number):2007126320
Application date: Nov. 02, 2005
Publication date: May. 24, 2007
Summary:
【課題】光の吸収係数が小さく高い透明度を有すると共に、充分な導電性を確保することができる窒化物系半導体基板、およびその製造方法を提供する。【解決手段】サファイア基板上11にGaN膜12及びTi膜13を形成後、水素ガスとアンモニアガスとの混合雰囲気で加熱して、多孔質TiN薄膜14に変換後、多孔質TiN薄膜14上にファセット成長GaN15を形成し、c面以外のファセット面を形成しながら成長する成長初期段階のGaN層の厚さが最終的に成長させたGaN層の全厚の30%以下となるように、GaN結晶を成長させてGaN厚膜17とし、ボイド16を介してサファイア基板11から剥離して、GaN自立基板とする。【選択図】 図5
Claim (excerpt):
直径25mm以上、かつ厚さ250μm以上の寸法を有する窒化物系半導体からなる基板であって、波長380nm以上の光に対する吸収係数が7cm-1未満であることを特徴とする窒化物系半導体基板。
IPC (3):
C30B 29/38
, C23C 16/34
, H01L 33/00
FI (3):
C30B29/38 D
, C23C16/34
, H01L33/00 C
F-Term (43):
4G077AA02
, 4G077AB01
, 4G077AB02
, 4G077AB04
, 4G077AB06
, 4G077AB09
, 4G077BE15
, 4G077DB04
, 4G077DB11
, 4G077EA06
, 4G077EB01
, 4G077EB06
, 4G077ED06
, 4G077EE07
, 4G077EF01
, 4G077EF03
, 4G077FJ03
, 4G077HA02
, 4G077HA12
, 4G077TB01
, 4G077TC01
, 4G077TC02
, 4G077TC08
, 4G077TC14
, 4G077TC16
, 4G077TH01
, 4G077TK11
, 4K030AA03
, 4K030AA13
, 4K030BA08
, 4K030BA38
, 4K030BB02
, 4K030CA05
, 4K030DA05
, 4K030FA10
, 4K030GA03
, 4K030JA09
, 4K030JA11
, 4K030LA14
, 5F041AA40
, 5F041CA40
, 5F041CA46
, 5F041CA64
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3)
-
特開平4-297023号公報
-
GaN単結晶基板及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-171276
Applicant:住友電気工業株式会社
-
GaN単結晶基板およびその製造方法ならびに発光デバイス
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-020078
Applicant:住友電気工業株式会社
Cited by examiner (1)
-
気相成長装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-120045
Applicant:古河機械金属株式会社
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