パルス光発生装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：光石俊郎 , 田中康幸 , 松元洋
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007231170
Publication number (International publication number)：2009064940
Application date： Sep. 06, 2007
Publication date： Mar. 26, 2009
Summary：

【課題】波長1μm帯におけるWDM伝送用広帯域光源となると共に、40Gb/s以上の高速伝送用パルス光源となるパルス光発生装置を提供する。【解決手段】出力波長が1μm帯にあると共に繰返しがGHz以上のパルス光を出射する、能動モード同期ファイバレーザ又は波長可変能動モード同期ファイバレーザからなるパルス光源1と、パルス光源1からのパルス光を光増幅する光増幅器2と、光増幅器2で増幅したパルス光を入射する、レーザ出力波長において波長分散が正常分散である又は波長分散が正常分散であると共にフラットな分散であるフォトニック結晶ファイバ(PCF)3とを有し、PCF3から広帯域高繰返しパルス光を出射するパルス光発生装置。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

出力波長が1μm帯にあると共に繰返しがGHz以上のパルス光を出射する、能動モード同期ファイバレーザ又は波長可変能動モード同期ファイバレーザからなるパルス光源と、前記パルス光源からのパルス光を光増幅する光増幅器と、前記光増幅器で増幅したパルス光を入射する、レーザ出力波長において波長分散が正常分散である又は波長分散が正常分散であると共にフラットな分散であるフォトニック結晶ファイバとを有し、前記フォトニック結晶ファイバから広帯域高繰返しパルス光を出射することを特徴とするパルス光発生装置。

IPC (3)：

H01S 3/10 , H01S 3/06 , G02B 6/00

FI (3)：

H01S3/10 Z , H01S3/06 B , G02B6/00 376Z

F-Term (15)：

2H150AB18 , 2H150AF13 , 2H150AH33 , 5F172AF06 , 5F172AM08 , 5F172CC03 , 5F172CC04 , 5F172NN17 , 5F172NQ42 , 5F172NQ47 , 5F172NQ49 , 5F172NQ50 , 5F172NR12 , 5F172NR14 , 5F172ZZ11

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

光時分割多重分離装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-355681 Applicant：富士通株式会社
波長変換装置及びそれを用いた波長分割多重伝送方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-303512 Applicant：古河電気工業株式会社
多波長光源
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-052017 Applicant：株式会社東芝