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J-GLOBAL ID：200903047146746740

重合体、レジスト組成物及びパターンが形成された基板の製造方法

Inventor：
百瀬 陽

About 百瀬 陽


Applicant, Patent owner：
三菱レイヨン株式会社

About 三菱レイヨン株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006318381
Publication number (International publication number)：2008133312
Application date： Nov. 27, 2006
Publication date： Jun. 12, 2008
Summary：
【課題】DUVエキシマレーザーを用いるリソグラフィー等の液浸露光用のレジスト組成物として用いた場合に、高感度、高解像度であり、光線透過率が高く、液浸露光時にレジスト組成物からのクエンチャーの溶出が少ない重合体、レジスト組成物及びパターンが形成された基板の製造方法を提供する。【解決手段】特定のアミン骨格を有する構成単位(M)を含有するレジスト用の重合体、レジスト組成物、及びレジスト組成物を基板上に塗布してレジスト膜を形成する工程、レジスト膜と露光装置の最終レンズとの間に液浸液を介在させた状態で250nm以下の波長の光で露光する工程及び現像液で現像する工程を有するパターンが形成された基板の製造方法。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
下式(1)で表されるアミン骨格を有する構成単位(M)を含有するレジスト用の重合体。
IPC (3)：
C08F 20/34 ,  H01L 21/027 ,  G03F 7/039
FI (3)：
C08F20/34 ,  H01L21/30 502R ,  G03F7/039 601
F-Term (43)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100AL08T ,  4J100BA02P ,  4J100BA03P ,  4J100BA03S ,  4J100BA03T ,  4J100BA11Q ,  4J100BA15P ,  4J100BA16T ,  4J100BA31P ,  4J100BA40S ,  4J100BC03P ,  4J100BC04P ,  4J100BC04S ,  4J100BC07R ,  4J100BC07S ,  4J100BC09R ,  4J100BC09S ,  4J100BC09T ,  4J100BC49T ,  4J100BC53Q ,  4J100BC65P ,  4J100CA03 ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100DA62 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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