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J-GLOBAL ID：200903047149023048

リソグラフィーマスクおよび表面プラズモンを用いた光リソグラフィー法

Inventor： 羅 先剛 ,  石原 照也
Applicant, Patent owner： 独立行政法人理化学研究所
Agent (1)： 上島 淳一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004334195
Publication number (International publication number)：2005328020
Application date： Nov. 18, 2004
Publication date： Nov. 24, 2005
Summary：

【課題】近接場リソグラフィーのようにレジストとマスクとを密着させたり長時間の露光を行ったりすることなしに、光の波長の半分以下の寸法のパターンをレジストに転写できるようにする。【解決手段】光の入射側に表面プラズモンと該光とをカップリングして表面プラズモン共鳴を生成するための周期構造を形成し、上記周期構造と対向して周期または非周期の任意の形状の微細構造を形成するものであり、上記周期構造と上記微細構造との間に電場伝達層を形成し、上記電場伝達層上に上記微細構造を形成するようにしてもよい。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

光の入射側に表面プラズモンと該光とをカップリングして表面プラズモン共鳴を生成するための周期構造を形成し、 前記周期構造と対向して周期または非周期の任意の形状の微細構造を形成した ことを特徴とするリソグラフィーマスク。

IPC (2)：

H01L21/027 ,  G03F1/14

FI (2)：

H01L21/30 502D ,  G03F1/14 A

F-Term (5)：

2H095BA03 ,  2H095BA07 ,  2H095BC28 ,  5F046BA02 ,  5F046CB17

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 開口部と周期的に変化する表面形状を有する金属フィルムを利用する光伝送装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-150755   Applicant：日本電気株式会社
• 露光方法及び露光装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-322231   Applicant：キヤノン株式会社
• 近接場露光用マスク及びその製造方法、露光装置及び方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-239663   Applicant：キヤノン株式会社