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J-GLOBAL ID:200903047179062196

電気光学装置およびその作製方法並びに電子機器

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997344403
Publication number (International publication number):1999160735
Application date: Nov. 28, 1997
Publication date: Jun. 18, 1999
Summary:
【要約】【課題】 高精細かつ高コントラストなAMLCDを実現する。【解決手段】 素子電極101上に層間膜102を設け、当該層間膜102に対して開孔部103を形成する。次に、第1の金属層104を形成した後、埋め込み絶縁層105を形成する。そして、エッチバック法等の手段により埋め込み絶縁層105を後退させ、開孔部103が充填された状態を実現する。こうすることで平坦性を確保したまま素子電極101と第2の金属層107との電気的な接続が可能となる。
Claim (excerpt):
1個乃至数個のTFTと当該TFTに接続された画素電極と、を備えた複数の画素で構成される画素マトリクス回路を有する電気光学装置において、前記画素電極の一部は前記TFTと電気的に接続するためのコンタクト部を形成し、当該コンタクト部に生じる凹部には絶縁層が埋め込まれていることを特徴とする電気光学装置。
IPC (3):
G02F 1/136 500 ,  H01L 29/786 ,  H01L 21/336
FI (3):
G02F 1/136 500 ,  H01L 29/78 612 Z ,  H01L 29/78 627 G
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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