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J-GLOBAL ID：200903047180749057

露光装置及び露光方法、デバイス製造方法

Inventor：
長坂 博之

About 長坂 博之

, 
高岩 宏明

About 高岩 宏明

, 
蛭川 茂

About 蛭川 茂


Applicant, Patent owner：
株式会社ニコン

About 株式会社ニコン


Agent (4)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  青山 正和 ,  西 和哉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004349940
Publication number (International publication number)：2005191557
Application date： Dec. 02, 2004
Publication date： Jul. 14, 2005
Summary：
【課題】 基板テーブル上に液体が残留することを防止し、良好な露光精度を維持できる露光装置及び露光方法、デバイス製造方法を提供する。【解決手段】 露光装置EXは、液体1を介して基板P上に露光光ELを照射して、基板Pを露光するものであって、基板Pを保持するための基板テーブルPTを備え、基板テーブルPTに、撥液性の平坦面30Aを有するプレート部材30が交換可能に設けられている。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
液体を介して基板上に露光光を照射して、前記基板を露光する露光装置において、 前記基板を保持するための基板テーブルを備え、 前記基板テーブルに、その表面の少なくとも一部が撥液性の部材が交換可能に設けられている露光装置。
IPC (3)：
H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  H01L21/68
FI (4)：
H01L21/30 515G ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/68 P ,  H01L21/30 515D
F-Term (12)：
5F031CA02 ,  5F031HA02 ,  5F031HA08 ,  5F031HA13 ,  5F031HA33 ,  5F031HA48 ,  5F031MA27 ,  5F031PA07 ,  5F031PA23 ,  5F046BA03 ,  5F046CC08 ,  5F046DA27
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (6)
  • 国際公開第99/49504号パンフレット
  • 露光装置及び露光方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-185389   Applicant：キヤノン株式会社
  • リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-417260   Applicant：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
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Cited by examiner (5)
  • 露光装置及び露光方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-185389   Applicant：キヤノン株式会社
  • リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-417260   Applicant：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
  • リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-169275   Applicant：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
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