リソグラフィ装置及びデバイス製造方法

Inventor： , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (4)：浅村皓 , 浅村肇 , 森徹 , 岩本行夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004169275
Publication number (International publication number)：2005005707
Application date： Jun. 08, 2004
Publication date： Jan. 06, 2005
Summary：

【課題】改善された機能性を有する浸漬式リソグラフィ投影装置を提供する。【解決手段】放射線源LAをも備えた、放射線の投影ビームPBを供給するための放射線システムEx、ILと、部材PLに対してマスクを正確に位置決めするための第1の位置決め手段に接続された第1のオブジェクト・テーブル(マスク・テーブル)MTと、部材PLに対して基板を正確に位置決めするための第2の位置決め手段に接続された第2のオブジェクト・テーブル(基板テーブル)WTと、マスクMAの照射された部分を基板Wのターゲット部分Cに結像させるための投影システムPLとを備えている。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

放射線の投影ビームを提供するための放射線システムと、パターン形成手段を支持するための支持構造であって、該パターン形成手段が所望のパターンに従って前記投影ビームにパターンを形成するように働く支持構造と、基板を保持するための基板テーブルと、パターンが形成された前記ビームを前記基板のターゲット部分の上に投影するための投影システムと、前記投影システムの最終要素と前記基板テーブル上に配置されたオブジェクトの間の空間の少なくとも一部分を満たすための液体供給システムとを有するリソグラフィ投影装置であって、前記浸漬液を通過した前記放射線の投影ビームによって照明されるように配置される少なくとも1つのセンサを有することを特徴とするリソグラフィ投影装置。

IPC (2)：

H01L21/027 , G03F7/20

FI (3)：

H01L21/30 515D , G03F7/20 502 , G03F7/20 521

F-Term (7)：

2H097CA13 , 5F046CA04 , 5F046CB01 , 5F046CB12 , 5F046CB25 , 5F046CC01 , 5F046FA10

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (7)

液浸型露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-121757 Applicant：株式会社ニコン
露光装置及びその製造方法並びに露光方法及びデバイス製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-151985 Applicant：株式会社ニコン
液浸式投影露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-339510 Applicant：キヤノン株式会社

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Cited by examiner (7)

液浸型露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-121757 Applicant：株式会社ニコン
露光装置及びその製造方法並びに露光方法及びデバイス製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-151985 Applicant：株式会社ニコン
露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-156545 Applicant：株式会社ニコン

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