Pat
J-GLOBAL ID：200903047389127312
原子間力顕微鏡を用いた微細加工方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
松下 義治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003319361
Publication number (International publication number)：2005081527
Application date： Sep. 11, 2003
Publication date： Mar. 31, 2005
Summary：
【課題】 原子間力顕微鏡を応用した微細加工装置の加工品質や加工精度を向上させる。【解決手段】 集束イオンビーム装置を原子間力顕微鏡を応用した微細加工装置内に組み込み、集束イオンビーム8のエッチングまたはデポジションの微細加工能力を用いて、加工用の原子間力顕微鏡探針11の加工や付着物の除去、ドリフト用のマーカの形成、垂直断面加工、加工個所の罫書き線作製、加工始点での応力集中回避のための溝掘りを行って、原子間力顕微鏡を応用した微細加工装置単体で持っていた欠点を補い、加工品質や加工精度を向上させる。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
原子間力顕微鏡の探針を用いた加工の途中で、装置内に組み込んだ集束イオンビーム装置で前記加工用の原子間力顕微鏡探針先端を観察し、該先端が丸まっている場合には探針先端に追加工を行い先鋭化し、該先鋭化した探針で加工することを特徴とする原子間力顕微鏡を用いた微細加工方法。
IPC (4)：
B82B3/00
, G01N13/16
, H01J37/30
, H01J37/317
B82B3/00
, G01N13/16 A
, H01J37/30 Z
, H01J37/317 D
5C034DD09
, 5F004AA09
, 5F004BA11
, 5F004BB32
, 5F004EA39
Cited by examiner (6)
-
微細加工装置
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平11-162229
Applicant：キヤノン株式会社
-
走査型プローブ顕微鏡用探針
Gazette classification：公開公報
Application number：特願2002-342286
Applicant：セイコーインスツルメンツ株式会社
-
走査プローブ顕微鏡用探針の作製方法及びそのための装置
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平10-251486
Applicant：科学技術振興事業団
Show all
Article cited by the Patent：
Return to Previous Page
