撥水膜の形成方法および装置並びにインクジェット式プリンタヘッドの撥水処理方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：鈴木喜三郎 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997317535
Publication number (International publication number)：1999152569
Application date： Nov. 18, 1997
Publication date： Jun. 08, 1999
Summary：

【要約】【課題】短時間で容易に撥水性の膜を形成できるようにする。【解決手段】撥水膜形成装置10は、反応ガス供給部12の反応ガス生成部22が導入された四フッ化炭素ガスと酸素ガスとを介して放電し、フッ素ガスを生成して放電部に供給する。バブリング器16は、デカン38を通過したヘリウムガスを放電部に供給する。放電部14は、放電電極部54、56と接地電極62との間の放電領域66、68に供給された大気圧にあるデカンを含んだヘリウムガスとフッ素ガスとの混合ガス50を介して放電し、活性種を生成する。活性種は、接地電極62の上に配置されたプリンタヘッド70のインク噴射面に供給され、デカンにフッ素が取り込まれた撥水性の膜が重合される。

Claim (excerpt)：

大気圧またはその近傍の圧力下において気体状炭化水素を含んだフッ素ガスまたはフッ化水素ガス中で放電を発生させて活性種を生成し、この活性種によって前記炭化水素を重合させて被処理材の表面に撥水性の膜を形成することを特徴とする撥水膜の形成方法。

IPC (2)：

C23C 16/30 , B41J 2/135

FI (2)：

C23C 16/30 , B41J 3/04 103 N

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (10)

特開平2-026822
珪素又は珪素酸化物の溶蝕方法及び溶蝕装置ならびに不純物分析用試料の調製方法及び装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-150759 Applicant：株式会社東芝
フロンガス処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-198337 Applicant：石川島播磨重工業株式会社

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