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J-GLOBAL ID：200903047567490167

シリカ微粒子凝集体

Inventor：
森 寛

About 森 寛

, 
加藤 波奈子

About 加藤 波奈子


Applicant, Patent owner：
三菱化学株式会社

About 三菱化学株式会社


Agent (1)： 真田 有
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002360180
Publication number (International publication number)：2003238142
Application date： Dec. 12, 2002
Publication date： Aug. 27, 2003
Summary：
【要約】【課題】 細孔容積及び比表面積が大きいだけでなく、圧壊強度が低く、高比表面積及び高細孔容積で、シャープな細孔分布を有し、耐熱性,耐水性,物性安定性等にも優れ、且つ製造コストが低くて生産性にも優れるようにする。【解決手段】 細孔の最頻直径(Dmax)が20nm未満のシリカよりなる微粒子の凝集体であって、圧壊強度が100N以下であり、且つ、固体Si-NMRでのQ4ピークのケミカルシフトをδ(ppm)とした場合に、δが下記式(I) -0.0705×(Dmax)-110.36>δ ・・・(I)を満足するようにする。
Claim (excerpt)：
細孔の最頻直径(Dmax)が20nm未満のシリカよりなる微粒子の凝集体であって、圧壊強度が100N以下であり、且つ、固体Si-NMR測定におけるQ4ピークのケミカルシフト値をδ(ppm)とした場合に、δが下記式(I) -0.0705×(Dmax)-110.36>δ ・・・(I)を満足することを特徴とする、シリカ微粒子凝集体。
IPC (2)：
C01B 33/18 ,  C01B 33/14
FI (2)：
C01B 33/18 Z ,  C01B 33/14
F-Term (19)：
4G072AA27 ,  4G072AA28 ,  4G072BB01 ,  4G072BB05 ,  4G072CC10 ,  4G072GG01 ,  4G072GG03 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ11 ,  4G072MM01 ,  4G072MM26 ,  4G072RR12 ,  4G072TT05 ,  4G072TT08 ,  4G072TT09 ,  4G072TT19 ,  4G072UU11 ,  4G072UU12 ,  4G072UU17
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2)
  • 特開昭62-113713号公報
  • シリカゲルの製造方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-185171   Applicant：日本シリカ工業株式会社
Cited by examiner (11)
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