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J-GLOBAL ID:200903047726251047
半導体発光素子及びその製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
菅野 中
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995192075
Publication number (International publication number):1997045960
Application date: Jul. 27, 1995
Publication date: Feb. 14, 1997
Summary:
【要約】【課題】 窒化ガリウム系化合物半導体の結晶性及び表面平滑性を改善し、信頼度の高い高輝度短波長半導体発光素子を歩留り良く安価に供給する。【解決手段】 サファイア基板あるいはSi基板1上に形成されたInxGayAl1-x-yN(但し0≦x≦1,0≦x+y≦1)層3を少なくとも1層含む半導体発光素子であって、基板1の表面にInxGayAl1-x-yN層3と格子整合が可能なZnOバッファ層2を成長させる。
Claim (excerpt):
サファイア基板上に形成されたInxGayAl1-x-yN(但し0≦x≦1,0≦x+y≦1)層を少なくとも1層含む半導体発光素子であって、前記サファイア基板表面に堆積されたZnOバッファ層を含むことを特徴とする半導体発光素子。
IPC (4):
H01L 33/00
, C30B 25/18
, C30B 29/40 502
, H01L 21/205
FI (4):
H01L 33/00 B
, C30B 25/18
, C30B 29/40 502 H
, H01L 21/205
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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窒化ガリウム系薄膜の成長方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-179707
Applicant:旭化成工業株式会社
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窒化ガリウム系薄膜の成長方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-265835
Applicant:旭化成工業株式会社
-
半導体発光装置の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-004719
Applicant:旭化成工業株式会社
-
3-5族化合物半導体と発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-070621
Applicant:住友化学工業株式会社
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