疎水性シリカ粉末およびその製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001060487
Publication number (International publication number)：2002256170
Application date： Mar. 05, 2001
Publication date： Sep. 11, 2002
Summary：

【要約】【課題】優れた疎水性、流動性を安定して保持することが可能であり、各種有機、無機粉体の流動化剤や、樹脂等の増粘剤、補強充填剤として有用な疎水性シリカ粉末を提供する。【解決手段】ポリシロキサン及びトリメチルシリル化剤により表面処理されたシリカ粉末であって、トリメチルシリル基がシリカ粉末の原体シリカ粉末の表面積1nm2あたり0.3〜1.5個の割合で存在せしめ、且つ、ポリシロキサンが該シリカ粉末の原体シリカ粉末100重量部に対して、A/20〜A/5重量部(但し、Aは原体シリカ粉末の比表面積(m2/g)である。)の割合で付着せしめる。

Claim (excerpt)：

原体シリカ粉末をポリシロキサン及びトリメチルシリル化剤により表面処理したシリカ粉末であって、トリメチルシリル基が該原体シリカ粉末の表面積1nm2あたり0.3〜1.5個の割合で存在し、且つ、ポリシロキサンが該原体シリカ粉末100重量部に対して、A/20〜A/5重量部(但し、Aは原体シリカ粉末の比表面積(m2/g)である。)の割合で付着していることを特徴とする疎水性シリカ粉末。

IPC (5)：

C09C 1/28 , C01B 33/159 , C01B 33/18 , C09C 3/12 , C08K 9/06

FI (5)：

C09C 1/28 , C01B 33/159 , C01B 33/18 C , C09C 3/12 , C08K 9/06

F-Term (24)：

4G072AA41 , 4G072GG01 , 4G072GG02 , 4G072GG03 , 4G072HH14 , 4G072HH28 , 4G072HH29 , 4J002AA001 , 4J002DJ016 , 4J002FB146 , 4J002FB266 , 4J002GS00 , 4J037AA18 , 4J037CB23 , 4J037CB26 , 4J037CC28 , 4J037EE02 , 4J037EE03 , 4J037EE04 , 4J037EE25 , 4J037EE43 , 4J037EE44 , 4J037EE50 , 4J037FF17

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

特開昭63-006062
特開昭63-139367
ケイ酸を解凝集する方法およびシリコーンゴム混合物中の充填剤としての解凝集されたケイ酸の使用
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-349511 Applicant：ヒュールスシリコーンゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング

Show all

Return to Previous Page