Pat
J-GLOBAL ID:200903048661629299
III族窒化物半導体発光素子
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
矢口 平
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999227075
Publication number (International publication number):2001053338
Application date: Aug. 11, 1999
Publication date: Feb. 23, 2001
Summary:
【要約】【課題】III族窒化物半導体からなる発光層を含むpn接合型ヘテロ接合構造の発光部を具備したIII族窒化物半導体発光素子にあって、形成するのが煩雑なp形III族窒化物半導体層に代替して、簡便に形成できる低抵抗のp形導電層をp形障壁層として、pn接合型ヘテロ接合構造の発光部を構成する。【解決手段】p形伝導を呈する導電性酸化物材料からなるp形障壁層を利用してpn接合型ヘテロ構造の発光部を構成する。p形の透明酸化物材料から構成されるp形障壁層は、p形障壁層及びp形ウィンドウ層として兼用できるので、高輝度のIII族窒化物半導体発光素子が提供できる。
Claim (excerpt):
発光部として、n形のIII族窒化物半導体からなる障壁層と、インジウム含有III族窒化物半導体からなる発光層と、酸化物からなるp形層とを含むことを特徴とするIII族窒化物半導体発光素子。
IPC (3):
H01L 33/00
, H01L 21/205
, H01S 5/32
FI (3):
H01L 33/00 C
, H01L 21/205
, H01S 5/32
F-Term (43):
5F041AA42
, 5F041CA03
, 5F041CA40
, 5F041CA46
, 5F045AA04
, 5F045AA18
, 5F045AA19
, 5F045AB14
, 5F045AB17
, 5F045AB18
, 5F045AB40
, 5F045AC01
, 5F045AC08
, 5F045AC09
, 5F045AC12
, 5F045AC16
, 5F045AC19
, 5F045AD04
, 5F045AD05
, 5F045AD06
, 5F045AD07
, 5F045AD08
, 5F045AD09
, 5F045AF03
, 5F045AF04
, 5F045AF05
, 5F045AF09
, 5F045BB16
, 5F045CA09
, 5F045CA10
, 5F045CA11
, 5F045CA12
, 5F045DA51
, 5F045DA52
, 5F045DA53
, 5F045DA54
, 5F045DA55
, 5F045DA62
, 5F045DA63
, 5F045DA64
, 5F073CA07
, 5F073EA05
, 5F073EA24
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
-
低抵抗p型窒化ガリウム系化合物半導体の気相成長方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-007298
Applicant:日本電気株式会社
-
半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-305668
Applicant:株式会社ジャパンエナジー
-
短波長発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-208486
Applicant:昭和電工株式会社
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