浄化装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：西教圭一郎 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999074398
Publication number (International publication number)：2000262840
Application date： Mar. 18, 1999
Publication date： Sep. 26, 2000
Summary：

【要約】【課題】保守管理に手間がかからず、構成の簡略化を図る。【解決手段】浄化装置1は、集塵手段3と非平衡プラズマを発生させるプラズマ発生手段4と後処理手段160とを含む。煤塵などの塵埃を含むガスは、集塵手段3に供給され、集塵手段3で塵埃を捕集して除去し、この塵埃が除去されたガスはプラズマ発生手段4に供給され、プラズマ発生手段4および後処理手段160でこのガス中の臭気成分および有害成分ならびにオゾンを分解除去する。

Claim (excerpt)：

処理すべきガスが供給され、放電電極およびアース電極間の放電によってプラズマを発生するプラズマ発生手段と、プラズマ発生手段によって処理されたガスが供給され、ガス中のオゾンを分解するとともに、ガス中の臭気成分および酸性成分の少なくともいずれか一方を処理する後処理手段とを含むことを特徴とする浄化装置。

IPC (2)：

B01D 53/32 , H05H 1/24

FI (2)：

B01D 53/32 , H05H 1/24

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (10)

気体の清浄方法及び装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-357380 Applicant：荏原インフィルコ株式会社, 株式会社荏原総合研究所
特開平4-197418
プラズマ利用の排ガス処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-103407 Applicant：株式会社タクマ

Show all

Return to Previous Page