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J-GLOBAL ID：200903049182227301

研磨方法及び研磨装置

Inventor： 矢代 弘克 ,  金谷 正敏 ,  大谷 昇 ,  勝野 正和 ,  藍郷 崇
Applicant, Patent owner： 新日本製鐵株式会社
Agent (1)： 八田 幹雄 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998365187
Publication number (International publication number)：2000190206
Application date： Dec. 22, 1998
Publication date： Jul. 11, 2000
Summary：

【要約】【課題】 乾式研磨において、従来人手で行っていた研磨砥粒の塗布調整作業を自動化することにより、研磨プロセスの効率化と共に、作業者間のバラツキをなくし、常時適切な条件で研磨できる研磨方法及びそのための装置を提供する。【解決手段】 ポリッシャを貼付した研磨定盤を回転させるとともに、自動砥粒供給手段から研磨砥粒を前記ポリッシャ上に供給し、研磨砥粒ならし手段により該砥粒を前記ポリッシャに一様に分布・保持させながら、被加工物を前記ポリッシャに押し付けて乾式研磨することにより、被加工物の研磨表面を鏡面研磨する方法、及び、そのための研磨装置である。

Claim (excerpt)：

ポリッシャを貼付した研磨定盤を回転させるとともに、自動砥粒供給手段から研磨砥粒を前記ポリッシャ上に供給し、研磨砥粒ならし手段により該砥粒を前記ポリッシャに一様に分布・保持させながら、被加工物を前記ポリッシャに押しつけて乾式研磨することにより、被加工物の研磨表面を鏡面研磨することを特徴とする研磨方法。

IPC (3)：

B24B 37/00 ,  H01L 21/304 621 ,  H01L 21/304 622

FI (3)：

B24B 37/00 Z ,  H01L 21/304 621 B ,  H01L 21/304 622 B

F-Term (11)：

3C058AA07 ,  3C058AA09 ,  3C058AC01 ,  3C058AC04 ,  3C058BA08 ,  3C058BA09 ,  3C058BC03 ,  3C058CB01 ,  3C058CB03 ,  3C058CB10 ,  3C058DA02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

• 特開平2-098927
  
• 複合材料のポリシング加工方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-012716   Applicant：株式会社ノリタケカンパニーリミテド
• 硬質ウエハ-の研磨方法及び研磨装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-133773   Applicant：住友電気工業株式会社
• 研磨装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-323005   Applicant：富士通株式会社, 富士通ヴィエルエスアイ株式会社
• 炭化珪素単結晶のメカノケミカルポリシング方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-229150   Applicant：新日本製鐵株式会社
• ラップ液自動供給装置付ラップ盤
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-183149   Applicant：日本航空電子工業株式会社