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J-GLOBAL ID：200903049522700627

光インプリント用モールド及び光インプリント方法、並びに磁気記録媒体及びその製造方法

Inventor：
若松 哲史

About 若松 哲史

, 
山下 典子

About 山下 典子

, 
市川 健次

About 市川 健次


Applicant, Patent owner：
富士フイルム株式会社

About 富士フイルム株式会社


Agent (3)： 廣田 浩一 ,  流 良広 ,  松田 奈緒子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008050768
Publication number (International publication number)：2009208240
Application date： Feb. 29, 2008
Publication date： Sep. 17, 2009
Summary：
【課題】基板の両面に位置するモールドの位置合わせが可能となり、両面同時の光インプリントを高精度に行うことができ、スループットが向上する光インプリント用モールド及び該光インプリント用モールドを用いた光インプリント方法、並びに磁気記録媒体及びその製造方法の提供。【解決手段】樹脂組成物が塗布された基板の両面に凹凸パターンを形成するための一組の光インプリント用モールドであって、前記一組の光インプリント用モールドが、いずれもインプリントの際に前記基板の両面における該一組の光インプリント用モールドの相対位置関係を決定するためのアライメントマークを少なくとも2つ有し、前記アライメントマークが、前記モールドと前記基板とが接触しない非接触領域に設けられている光インプリント用モールドである。【選択図】図6A
Claim (excerpt)：
樹脂組成物が塗布された基板の両面に凹凸パターンを形成するための一組の光インプリント用モールドであって、 前記一組の光インプリント用モールドが、いずれもインプリントの際に前記基板の両面における該一組の光インプリント用モールドの相対位置関係を決定するためのアライメントマークを少なくとも2つ有し、 前記アライメントマークが、前記モールドと前記基板とが接触しない非接触領域に設けられていることを特徴とする光インプリント用モールド。
IPC (6)：
B29C 33/42 ,  G03F 7/20 ,  B29C 59/02 ,  G11B 5/84 ,  G11B 5/855 ,  G11B 5/65
FI (6)：
B29C33/42 ,  G03F7/20 501 ,  B29C59/02 Z ,  G11B5/84 Z ,  G11B5/855 ,  G11B5/65
F-Term (27)：
2H097AA20 ,  4F202AF01 ,  4F202AG05 ,  4F202AG19 ,  4F202AH79 ,  4F202AJ03 ,  4F202CA19 ,  4F202CB01 ,  4F202CB29 ,  4F202CD23 ,  4F202CK25 ,  4F209AA44 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AH73 ,  4F209AP06 ,  4F209AR07 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PN06 ,  4F209PN09 ,  4F209PQ11 ,  5D006DA03 ,  5D112AA05 ,  5D112AA18 ,  5D112GA20
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (3)

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