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J-GLOBAL ID：200903049583404559

電子ビーム照射表面改質加工装置

Inventor：
和泉 忠美

About 和泉 忠美


Applicant, Patent owner：
株式会社ソディック

About 株式会社ソディック


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005003034
Publication number (International publication number)：2006187799
Application date： Jan. 07, 2005
Publication date： Jul. 20, 2006
Summary：
【課題】低圧ガス中の環状アノードと平面状冷陰カソード間の磁場中で、アノードとターゲット間に電圧を印加してアノードプラズマを発生させた状態で、ターゲットに対しカソードに高い負の電圧パルスを印加して、アノードプラズマを通路とする断面積の大きい電子ビームのパルスを、ターゲットと同電位のテーブル上に設置した被照射体に繰返し照射して表面を処理する装置の発生照射エネルギ量を検知して管理できるようにする。【解決手段】 テーブル面上に設置可能な熱量測定セットであって、テーブルに導線を介して接続される以外には熱絶縁状に保持された電子ビームの被照射面を有する熱量測定体と、該測定体の温度を測定する温度センサと、新たな電子ビーム照射前の測定体の平衡温度と照射後の平衡温度との差を読み取る測定手段と、測定した温度差と、測定体の電子ビーム照射面積、比熱、及び質量とから被照射熱量を計算して表示する装置を設ける。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
電子銃内に平面冷陰極(カソード)と環状アノードを順次に配置し、電子ビームの被照射体を設置するテーブルをターゲットとして前記電子銃につながる低気圧電離気体を充填するハウジング中に位置せしめ、所定の低ガス圧状態におかれた電子銃内をソレイドの励磁により閉じ込め磁場中に置き、前記アノードとターゲット間に電圧を印加することにより電子銃内にアノードプラズマを生成させた状態とし、前記カソードに前記ターゲットに対し高い負の電圧パルスを加速電圧として印加することにより前記アノードプラズマを通路とする絞られない断面積の大きい低エネルギ密度の電子ビームのパルスを前記被照射体に照射し、照射を繰り返すことにより表面を改質処理する装置に於いて、 前記テーブル面上に設置可能な熱量測定セットであって、前記テーブルに導線を介して接続される以外には熱絶縁状に保持して設置可能な電子ビームの被照射面を有する熱量測定体と、該測定体の温度を測定する温度センサと、前記測定体の電子ビーム照射前の平衡温度又は前回の電子ビーム照射後の平衡温度と次回の電子ビーム照射後の平衡温度との差を読み取る測定手段と、前記測定した温度差と、測定体の電子ビーム照射面積、比熱、及び質量とから被照射熱量を計算して表示する装置とを有することを特徴とする電子ビーム照射表面改質加工装置。
IPC (5)：
B23K 15/00 ,  G21K 1/00 ,  G21K 5/04 ,  H01J 37/30 ,  H05H 1/24
FI (6)：
B23K15/00 502 ,  G21K1/00 E ,  G21K5/04 C ,  G21K5/04 E ,  H01J37/30 A ,  H05H1/24
F-Term (6)：
4E050JB09 ,  4E066AA03 ,  4E066BA12 ,  5C034AA02 ,  5C034AB02 ,  5C034AB04
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (2)

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