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J-GLOBAL ID：200903049798309700

光導波路およびその製造方法

Inventor：
金子 勝弘

About 金子 勝弘

, 
棚橋 成夫

About 棚橋 成夫


Applicant, Patent owner：
京セラ株式会社

About 京セラ株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999080697
Publication number (International publication number)：2000275456
Application date： Mar. 25, 1999
Publication date： Oct. 06, 2000
Summary：
【要約】【課題】 従来の光導波路は、簡便な方法で高い生産性で、しかも高い加工精度で製造することが困難であった。【解決手段】 導波光よりも高エネルギーの光の照射につれて屈折率が所定範囲内で小さくなる光学材料により形成したコア部4を、前記光学材料により形成され、前記光の照射によってコア部4より屈折率を小さくしたクラッド部5に内蔵させている光導波路である。この光導波路は、基板1上に前記光の照射につれて屈折率が所定範囲内で小さくなる光学材料からなる層3を形成する工程と、この層3のコア部4となる領域の周囲に相対的に多量の光照射を行なって、コア部4およびそれを内蔵するコア部4より屈折率を小さくしたクラッド部5を形成する工程とを具備する製造方法により作製する。簡便な方法で生産性が高く、しかも高い加工精度で製造することができる。
Claim (excerpt)：
導波光よりも高エネルギーの光の照射につれて屈折率が所定範囲内で小さくなる光学材料により形成したコア部を、前記光学材料により形成され、前記光の照射によって前記コア部より屈折率を小さくしたクラッド部に内蔵させていることを特徴とする光導波路。
IPC (2)：
G02B 6/12 ,  G02B 6/13
FI (2)：
G02B 6/12 N ,  G02B 6/12 M
F-Term (5)：
2H047KA03 ,  2H047PA17 ,  2H047PA28 ,  2H047QA05 ,  2H047TA43
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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