Pat
J-GLOBAL ID:200903050016724788
反射光学素子および露光装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999185696
Publication number (International publication number):2001013297
Application date: Jun. 30, 1999
Publication date: Jan. 19, 2001
Summary:
【要約】【課題】 本発明はX線や極紫外線を反射する多層膜反射鏡において、X線又は極紫外線の照射時でも熱変化による変形が非常に少なく、かつ冷却手段を設けたことによってX線や極紫外線の照射強度の減衰が生じないことを目的とする。【解決手段】 本発明では、X線又は極紫外線を反射する反射光学素子において、反射領域2aより広い面積に渡って反射膜を形成することが出来る基板1と、基板1上に反射領域2aと反射領域以外2bとに成膜された反射膜2と、反射領域以外2bに成膜された反射膜2上に設けられ、反射膜2を冷却する冷却手段3aとを備えた。
Claim (excerpt):
X線又は極紫外線を反射する反射光学素子において、反射領域より広い面積に渡って反射膜を形成することが出来る基板と、前記基板上に反射領域と前記反射領域以外とに成膜された前記反射膜と、前記反射領域以外に成膜された前記反射膜上に設けられ、前記反射膜を冷却する冷却手段とを備えたことを特徴とする反射光学素子。
IPC (5):
G21K 1/06
, G02B 5/08
, G02B 5/26
, G02B 7/182
, G02B 17/00
FI (6):
G21K 1/06 B
, G02B 5/08 F
, G02B 5/08 A
, G02B 5/26
, G02B 17/00 Z
, G02B 7/18 Z
F-Term (21):
2H042DA01
, 2H042DA08
, 2H042DA12
, 2H042DA14
, 2H042DA22
, 2H042DB13
, 2H042DD05
, 2H042DD06
, 2H042DD07
, 2H042DE00
, 2H043CB03
, 2H043CE00
, 2H048FA05
, 2H048FA18
, 2H048FA22
, 2H048FA24
, 2H087KA21
, 2H087NA02
, 2H087NA05
, 2H087TA02
, 2H087TA06
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
-
特開昭63-095399
-
X線用反射鏡
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-143789
Applicant:株式会社ニコン
-
特公昭41-014079
-
特開昭61-243404
-
X線反射型マスク及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-127420
Applicant:株式会社ニコン
-
X線反射型マスク
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-098426
Applicant:株式会社ニコン
-
投影露光方法及び投影露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-159964
Applicant:株式会社日立製作所
-
X線反射ミラー
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-332781
Applicant:三菱電機株式会社
Show all
Return to Previous Page