ポジ型感光性樹脂組成物

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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：萩野平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998132291
Publication number (International publication number)：1999327145
Application date： May. 14, 1998
Publication date： Nov. 26, 1999
Summary：

【要約】【課題】深紫外線、特にArF エキシマレーザー光に対して、特に残膜率、レジストプロファイルが優れ、現像欠陥の問題を生じないとともに、半導体製造プロセス上安定性の優れたポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。【解決手段】環状脂肪族炭化水素骨格構造を含み、酸の作用により分解してアルカリ可溶性となる重合体、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、分子量が1000以下のスルホンアミド構造を含む化合物、含窒素塩基性化合物及びフッソ系及び/またはシリコン系界面活性剤を含有するポジ型感光性樹脂組成物。

Claim (excerpt)：

(A)環状脂肪族炭化水素骨格構造を含み、酸の作用により分解してアルカリ可溶性となる重合体、(B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、(C)分子量が1000以下のスルホンアミド構造を含む化合物、(D)含窒素塩基性化合物、及び(E)フッソ系及び/またはシリコン系界面活性剤、を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。

IPC (3)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 504 , H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 504 , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-312671 Applicant：日本ゼオン株式会社
ポジ画像形成組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-017746 Applicant：富士写真フイルム株式会社
感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-352621 Applicant：ジェイエスアール株式会社

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