蛍光X線分析装置の検出下限モニタ

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：松下義治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004318763
Publication number (International publication number)：2006132945
Application date： Nov. 02, 2004
Publication date： May. 25, 2006
Summary：

【課題】試料のサイズの変化や、主成分の違いによる感度の変化、共存元素の影響によるバックグランドの大きさの変化があった場合でも毎回同じ検出下限で測定できる蛍光X線装置を提供する。【解決手段】試料サイズの変化や共存元素によるバックグランド強度の変化9をリアルタイムに測定し、測定時間を自動的に変化させ検出下限を一定に保つ。【選択図】図3

Claim (excerpt)：

測定試料を励起するX線源と、測定試料からのX線を検出するX線検出器と、そのX線を波形成形・信号処理を行う部分で構成され、X線のエネルギ情報をスペクトラムとし、そのスペクトラム情報から測定試料の成分を分析する蛍光X線分析装置において、スペクトル上に現れる分析対象元素のピーク周辺のバックグランド強度が変化しても、そのバックグランド強度をリアルタイムに測定し、検出下限算出式に代入することにより必要な検出下限を達成するための測定時間をリアルタイムに算出・設定するシステムを搭載した蛍光X線分析装置。

IPC (1)：

G01N 23/223

FI (1)：

G01N23/223

F-Term (12)：

2G001AA01 , 2G001BA04 , 2G001BA14 , 2G001CA01 , 2G001EA03 , 2G001FA09 , 2G001GA01 , 2G001KA01 , 2G001LA05 , 2G001MA10 , 2G001NA12 , 2G001NA16

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

蛍光X線分析装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-317633 Applicant：アワーズテック株式会社

Cited by examiner (2)

特開平3-221852
X線元素分析装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-311853 Applicant：日本電子株式会社, 日本電子エンジニアリング株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

“蛍光X線分析の手引”, 199307, 第4版, pp.63-65
“蛍光X線分析法”

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