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J-GLOBAL ID：200903050507483308

歪計測方法および歪計測装置

Inventor：
玄間 隆志

About 玄間 隆志

, 
松岡 新吾

About 松岡 新吾

, 
岡本 和也

About 岡本 和也


Applicant, Patent owner：
株式会社ニコン

About 株式会社ニコン


Agent (4)： 龍華 明裕 ,  飯山 和俊 ,  明石 英也 ,  林 茂則
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008146207
Publication number (International publication number)：2009294001
Application date： Jun. 03, 2008
Publication date： Dec. 17, 2009
Summary：
【課題】基板の歪みを簡便に計測する方法および装置。【解決手段】複数の素子を有する基板に、処理が実行される前に、一定の周期を有する周期パターンを形成するパターン形成段階と、他の基板に、一定の周期を有する周期パターンを形成して参照基板を作製する参照基板準備段階と、処理を実行された基板を参照基板に重ねて、周期パターンの重なりにより生じる縞を観測する観測段階と、観測段階における観測結果から基板の歪を計測する計測段階とを備える。【選択図】図7
Claim (excerpt)：
複数の素子が形成される基板に、処理が実行される前に、一定の周期を有する周期パターンを形成するパターン形成段階と、 一定の周期を有する周期パターンが形成された参照基板を準備する参照基板準備段階と、 前記処理を実行された前記基板を前記参照基板に重ねて、周期パターンの重なりにより生じる縞を観測する観測段階と、 前記観測段階における観測結果から前記基板の歪を計測する計測段階と を備える歪計測方法。
IPC (2)：
G01B 11/25 ,  H01L 21/66
FI (3)：
G01B11/25 H ,  H01L21/66 J ,  H01L21/66 Y
F-Term (19)：
2F065AA65 ,  2F065BB01 ,  2F065CC19 ,  2F065FF06 ,  2F065FF51 ,  2F065FF61 ,  2F065HH12 ,  2F065JJ08 ,  2F065JJ19 ,  2F065MM04 ,  2F065PP13 ,  2F065QQ39 ,  4M106AA01 ,  4M106AA07 ,  4M106AB15 ,  4M106CA47 ,  4M106DB04 ,  4M106DJ18 ,  4M106DJ20
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (2)

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